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于磊

作品数：1 被引量：4H指数：1
供职机构：中国科学技术大学工程科学学院精密机械与精密仪器系更多>>
发文基金：中国科学院“百人计划”国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇信噪比
  • 1篇正交
  • 1篇正交实验
  • 1篇正交实验法
  • 1篇紫外
  • 1篇紫外光刻
  • 1篇光刻

机构

  • 1篇中国科学技术...

作者

  • 1篇田扬超
  • 1篇刘雳颋
  • 1篇郑津津
  • 1篇赵玮
  • 1篇沈连婠
  • 1篇张峰
  • 1篇于磊

传媒

  • 1篇纳米技术与精...

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
紫外光刻加工误差实验被引量：4
2008年
为研究基于紫外光刻加工技术的光刻胶模型形状误差与工艺参数的关系，利用正交实验法对正性光刻胶AZ9260进行了实验研究引入田口方法关于信噪比统一测度的思想，获得了各加工工艺参数对光刻胶模型加工误差的影响显著度，其中甩胶速度、曝光时间和显影时间为显著因素．对所获得的光刻胶模型电镜图片采用了一种改进的Canny算法，实现了图像边缘提取进而对加工误差的表征与量化方法进行了研究，获得了10～30gm尺度的方形、直线和圆形图形的尺寸误差、直边直线度和直角圆化误差值．研究表明，图形的尺寸误差和直边直线度误差与图形尺寸之比随图形尺寸变大而变小，直角圆化的圆角半径不大于2μm．
刘雳颋沈连婠赵玮于磊张峰田扬超郑津津
关键词：紫外光刻正交实验法信噪比
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