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冯建

作品数：5 被引量：1H指数：1
供职机构：海南大学材料与化工学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家科技支撑计划更多>>
相关领域：一般工业技术理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇理学

主题

  • 4篇溅射
  • 3篇光学
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇带隙
  • 2篇透过率
  • 2篇金刚石薄膜
  • 2篇拉曼
  • 2篇拉曼光谱
  • 2篇类金刚石
  • 2篇类金刚石薄膜
  • 2篇光谱
  • 2篇光学带隙
  • 1篇氧流量
  • 1篇制备工艺参数
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇微观结构
  • 1篇结构性能
  • 1篇溅射气压

机构

  • 5篇海南大学
  • 2篇海南中航特玻...

作者

  • 5篇冯建
  • 4篇姜宏
  • 2篇马艳平
  • 1篇汪国庆
  • 1篇丁春华
  • 1篇王红燕
  • 1篇彭国强
  • 1篇蔡思翔

传媒

  • 2篇人工晶体学报
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇材料导报（纳...

年份

  • 1篇2019
  • 3篇2017
  • 1篇2016
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
氩气流量对多元掺杂ZnO薄膜性能的影响被引量：1
2016年
采用射频磁控溅射的方法在玻璃基底上用掺杂浓度为1%(质量分数)Al_2O_3,1%(质量分数)SiO2,1%(质量分数)石墨烯的陶瓷靶材制备出了多元掺杂氧化锌(ZnO∶Al∶Si∶GNP,GASZO)透明导电薄膜。利用XRD、SEM、四探针测试仪、紫外-可见分光光度计对薄膜的性能进行了表征和分析,研究了不同氩气流量(工作压强保持不变)对薄膜的结构、形貌及光电性能的影响。结果表明,所制备的薄膜均具有呈c轴择优取向的纤锌矿结构;当氩气流量为70sccm时,薄膜的电阻率最低为11.47×10^(-4)Ω·cm。所有薄膜样品在可见光波段的平均透过率超过91%。
段光申丁春华姜宏汪国庆彭国强冯建
关键词：射频磁控溅射光电性能
制备工艺参数对无氢类金刚石薄膜结构及光学性能的影响
2019年
采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片上制备了无氢DLC薄膜。采用多种技术手段表征了不同工艺参数下制备的DLC薄膜的结构及光学性能。结果表明,溅射功率、工作气压、基底温度和氩气流量的变化对薄膜结构、透过率和光学带隙有较大影响。薄膜内部sp^3键含量、可见光透过率及光学带隙都随溅射功率或基底温度的增加而减小,随工作气压的增大而增加,随氩气流量的增加先增大后减小。在工作气压为2.0Pa时,可制备出I_D/I_G为0.86、可见光区平均透过率为85%、光学带隙为1.68eV的DLC薄膜。
冯建姜宏姜宏张振华马艳平
关键词：类金刚石薄膜磁控溅射透过率拉曼光谱
氩氧流量比对CeO_x-SnO_x膜微观结构及光学性能的影响
2017年
采用磁控反应共溅射的方法,以金属Ce和Sn为金属源,成功地制备出CeO_x-SnO_x薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和X射线光电子能谱(XPS)等测试手段对薄膜的结构、表面形貌及成分进行了分析和表征。结果表明薄膜以岛状模式生长,随氩氧比降低,结晶性增强,出现CeO_2和SnO相。此外,利用紫外-可见分光光度计对薄膜的光学性能进行了研究,测试结果表明薄膜对紫外光有极强的吸收作用。当氩氧流量比为3∶1时,紫外光平均透过率仅为5.80%,而可见光平均透过率为81.48%。
那聪姜宏蔡思翔冯建王红燕
关键词：CE
溅射气压对碳硅氧薄膜透过率及光学带隙的影响
2017年
采用射频磁控溅射技术在玻璃基底和单晶硅片(100)上制备了碳硅氧(Si OC)薄膜,通过扫描电镜、X射线衍射、拉曼光谱、X射线光电子能谱及紫外可见透射光谱等技术手段对其进行了分析,研究了在不同溅射气压下所制备薄膜的组分、透过率及光学带隙。结果表明:随着溅射气压的增大,薄膜内部sp^3键含量、透过率及光学带隙均随之增大,sp^3键及其形成的宽带隙σ键对薄膜光学带隙有着较大影响。在溅射气压为3.0 Pa的条件下,薄膜光学带隙为2.67 e V。
冯建姜宏马艳平那聪王琦
关键词：透过率光学带隙
磁控溅射制备具有SiOC过渡层结构的类金刚石薄膜及其结构性能的研究
类金刚石(DLC)薄膜由于其独特的性能作为功能薄膜受到广泛的关注与研究。本文采用射频磁控溅射技术在玻璃上沉积DLC薄膜,旨在提高玻璃抗划伤能力。为了解决DLC薄膜在实际使用中容易脱落这一问题,设计了碳硅氧(SiOC)薄膜...
冯建
关键词：类金刚石薄膜磁控溅射光学带隙拉曼光谱
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