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吴素贞
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31
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供职机构:
中国电子科技集团第五十八研究所
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相关领域:
电子电信
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合作作者
徐海铭
中国电子科技集团第五十八研究所
洪根深
中国电子科技集团第五十八研究所
徐政
中国电子科技集团第五十八研究所
赵文彬
中国电子科技集团第五十八研究所
郑若成
中国电子科技集团第五十八研究所
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一种MTM反熔丝FPGA的编程方法
本发明公开一种MTM反熔丝FPGA的编程方法,属于可编程反熔丝技术领域。对于每一个反熔丝的编程,先施加正向编程脉冲,然后再施加反向编程脉冲;其中,对选定编程的反熔丝施加每一个编程脉冲之前,对布线轨线进行预充电;对选定编程...
马金龙
赵桂林
吴素贞
隽扬
封晴
杨霄垒
孙杰杰
曹靓
文献传递
一种适用于MTM反熔丝PROM的编程方法
本发明涉及一种适用于MTM反熔丝PROM的编程方法,包括:对欲编程的反熔丝施加每一个编程脉冲之前先进行编程预充电;上一个编程脉冲完成后,施加下一个编程脉冲之前先给PROM电路一定的热弛豫时间;将编程脉冲进行分组,两个一组...
马金龙
孙杰杰
封晴
吴素贞
于跃
王栋
徐睿
文献传递
VDMOS单粒子效应简化电路模型研究
2024年
通过在功率VDMOS器件的等效电路模型中引入电阻分析器件的表面电压对其单粒子效应的影响。根据仿真数据,分析颈区宽度、P+注入和反向传输电容等参数对器件的影响,设计了250 V器件并进行辐照试验。仿真结果及试验结果与模型分析的结论一致:辐照条件下,表面电压由电阻分压确定;增加P+注入剂量和减小颈区条宽能够减小电阻,提高器件抗单粒子效应的能力;通过降低颈区浓度减小反向传输电容的方法,无法提高器件的抗SEE能力;颈区条宽增加,器件辐照后漏电增加。
徐大为
徐政
吴素贞
陈睿凌
赵小寒
彭宏伟
关键词:
功率VDMOS器件
单粒子效应
一种MOSFET功率器件的制备方法
本发明提供了一种MOSFET功率器件的制备方法,属于集成电路技术领域。对器件敏感区域注入光刻,形成RH光罩的图形;按照RH光罩的图形注入非活性杂质离子。使得MOSFET功率器件的敏感区增加了外延硅层的缺陷数量,降低其在单...
徐海铭
吴素贞
洪根深
吴建伟
徐政
刘国柱
李燕妃
文献传递
一种抗单粒子烧毁的垂直型氮化镓功率器件的制作方法
本发明公开一种抗单粒子烧毁的垂直型氮化镓功率器件的制作方法,属于功率开关器件技术领域。通过在n<Sup>+</Sup>型GaN衬底和n<Sup>‑</Sup>型GaN外延层中间插入一定厚度的高掺杂的n型GaN缓冲层,并结...
吴素贞
徐政
徐海铭
洪根深
贺琪
赵文彬
吴建伟
谢儒彬
文献传递
抗单粒子失效的高压增强型GaN功率HEMT器件的制作方法
本发明公开一种抗单粒子失效的高压增强型GaN功率HEMT器件的制作方法,属于功率开关器件技术领域。提供外延基片,在所述外延基片上形成AlN成核层和GaN缓冲层;在所述GaN缓冲层上制作选区背势垒埋层;继续外延生长非掺杂G...
吴素贞
徐政
徐海铭
洪根深
赵文彬
吴建伟
谢儒彬
文献传递
一种抗单粒子烧毁的VDMOS器件场区结构的制备方法
本发明公开一种抗单粒子烧毁的VDMOS器件场区结构的制备方法,属于功率开关器件领域。提供硅晶圆材料,在硅晶圆材料中进行P<Sup>+</Sup>注入形成P<Sup>+</Sup>低阻层;进行N<Sup>+</Sup>注入...
徐政
吴素贞
洪根深
通孔上MTM反熔丝结构及其制备工艺
本发明涉及一种通孔上MTM反熔丝结构及其制备工艺,其包括衬底以及位于所述衬底上的器件层;在所述器件层上压盖有熔丝封体,在所述熔丝封体内设有熔丝下电极,在所述熔丝封体外设有熔丝上电极,所述熔丝上电极位于熔丝下电极的正上方;...
王印权
郑若成
洪根深
赵文彬
徐海铭
吴素贞
文献传递
一种通孔下MTM反熔丝的制备方法
本发明公开一种通孔下MTM反熔丝的制备方法,属于半导体制造技术领域。首先在衬底材料上依次形成金属间介质层和下极板导电层,在所述下极板导电层表面淀积下极板阻挡层,在下极板阻挡层上形成凹槽窗口;然后在形成凹槽窗口的下极板阻挡...
郑若成
王印权
吴素贞
刘佰清
郑良晨
洪根深
文献传递
基于多晶硅化物连线的抗单粒子辐射VDMOS器件制造方法
本发明公开一种基于多晶硅化物连线的抗单粒子辐射VDMOS器件制造方法,属于功率开关器件领域。首先提供硅晶圆材料,通过P<Sup>+</Sup>注入形成P<Sup>+</Sup>低阻;接着在P<Sup>+</Sup>低阻表...
徐政
吴素贞
洪根深
谢儒彬
张庆东
徐海铭
廖远宝
唐新宇
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