2024年7月12日
星期五
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
周伟民
作品数:
1
被引量:0
H指数:0
供职机构:
中国科学院上海微系统与信息技术研究所
更多>>
发文基金:
中国博士后科学基金
全球变化研究国家重大科学研究计划
更多>>
相关领域:
电子电信
更多>>
合作作者
宋志棠
中国科学院上海微系统与信息技术...
刘彦伯
中国科学院上海微系统与信息技术...
张挺
中国科学院上海微系统与信息技术...
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
电子电信
主题
1篇
阵列
1篇
相变材料
1篇
UV
1篇
IL
机构
1篇
中国科学院
1篇
上海市纳米科...
作者
1篇
张挺
1篇
刘彦伯
1篇
宋志棠
1篇
周伟民
传媒
1篇
微细加工技术
年份
1篇
2008
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
利用压印技术制备大面积相变材料阵列
2008年
采用高效、低成本的紫外压印技术(UV—IL)在2in.Si/SiO2基Ti/TiN/Si2Sb2Te5(SST)多层膜表面制备了密度为3.8M/In^2的AMONIL点阵结构,并通过反应离子刻蚀得到相变材料SST阵列;电阻与脉冲宽度特性测得SST基PCRAM存储单元SET/RESET电阻值变化约30倍,Ⅰ—Ⅴ特性表明,阈值电压为1.18V。此外,时间分辨XRD原位加热情况下SST薄膜结构变化说明,SST材料的相变发生在200℃~300℃之间。
刘彦伯
钮晓鸣
宋志棠
闵国全
万永中
张静
周伟民
李小丽
张挺
张剑平
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张