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汤英童

作品数:4 被引量:10H指数:2
供职机构:华中光电技术研究所更多>>
相关领域:金属学及工艺理学电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇抛光
  • 2篇化学抛光
  • 1篇电镀
  • 1篇镀层
  • 1篇镀镍
  • 1篇亚表面损伤层
  • 1篇亚硫酸
  • 1篇亚硫酸盐
  • 1篇石英
  • 1篇石英玻璃
  • 1篇损伤层
  • 1篇镍磷
  • 1篇镍磷镀层
  • 1篇微晶
  • 1篇微晶玻璃
  • 1篇显微分析
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇晶圆
  • 1篇化学镀
  • 1篇化学镀镍

机构

  • 4篇华中光电技术...

作者

  • 4篇汤英童
  • 2篇杨长城
  • 1篇熊长新
  • 1篇袁顺山

传媒

  • 4篇光学与光电技...

年份

  • 1篇2024
  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2014
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
金刚石粉表面化学镀镍工艺改进及镀层显微分析被引量:5
2021年
对金刚石粉表面化学镀镍的反应机理进行了分析,并在活化和化学镀之间增加了一个还原步骤。采用正交实验优化了金刚石粉表面化学镀镍工艺,最优的化学镀参数为:硫酸镍26 g/L,次磷酸钠22 g/L,柠檬酸钠6 g/L,甲酸钠6 g/L,pH值为9~10。采用扫描电镜(SEM)、能谱成分分析(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)对金刚石粉表面镀镍层的表面形貌、镀层成分及物相结构进行了分析。金刚石粉表面的致密镍-磷镀层中磷的质量分数为7.78%,属于中磷镀镍层,中磷镀镍的硬度,耐磨性和耐腐蚀性比较适中,且磁性小,有利于后续的电镀。
汤英童杨长城
关键词:化学镀镍次磷酸钠镍磷镀层
基于恒电流法晶圆电镀金的工艺研究
2024年
介绍了采用亚硫酸盐镀金工艺在晶圆上镀金膜的工艺流程,以及电镀液的日常维护和基于恒电流法电镀金的工艺影响因素。对亚硫酸镀金工艺进行了优化,确定了最佳的工艺参数:金10 g/L,亚硫酸钠140 g/L,磷酸氢二钾40 g/L,柠檬酸钾80 g/L,氯化钾100 g/L,EDTA-2Na 10 g/L,十二烷基硫酸钠0.01~0.2 g/L,光亮剂20 g/L,pH值7.5~8.0,阴极电流密度2.1 m A/cm^(2),阳极Pt网,磁力搅拌转速200转/min,电镀液温度为45℃。成功地得到了光滑细致的金黄色镀层。采用扫描电镜(SEM)和能谱成分分析(EDS)对电镀金膜的表面形貌、成分进行了分析,结果表明,电镀金膜表面晶粒均匀、致密,金膜的纯度也极高。解决了激光器芯片中要求电参数性能长期稳定的表面电极的镀金膜问题。
汤英童齐志强王建波
关键词:亚硫酸盐晶圆电镀
石英玻璃片的化学抛光工艺研究被引量:2
2022年
石英玻璃是紫外光刻、激光核技术等精密光学系统的关键光学元件。石英玻璃在加工过程中易出现表面及亚表面损伤和蚀坑等缺陷问题,化学抛光能有效消除石英玻璃的亚表面损伤。介绍了石英玻璃片的化学抛光工艺原理和过程,利用正交实验法优化了石英玻璃化学抛光工艺参数,分析了化学抛光过程中抛光液成分、抛光液温度和抛光时间对石英玻璃片表面粗糙度的影响。实验结果表明,采用氟化氢铵、水和丙三醇配置的化学抛光液,在最优化的工艺参数时,石英玻璃片经过化学抛光,表面粗糙度可降到100 nm左右,可见光透过率最高可达到89%。为石英玻璃光学零件的化学抛光工艺提供了理论依据和技术支持。
汤英童杨长城
关键词:石英玻璃亚表面损伤层化学抛光表面粗糙度
微晶玻璃试片的化学抛光研究被引量:3
2014年
光学零件的凹槽、孔道等复杂结构无法进行机械抛光,只能采用化学抛光。分析了化学抛光的机理和微晶玻璃的组成,设计了化学抛光技术方案、工艺流程和操作方法。对微晶玻璃化学抛光前后的光学表面进行了测试、分析。结果表明:化学抛光去除量主要由化学抛光液的温度和抛光时间控制。采用氟化氢铵、氢氟酸与添加剂组成的化学抛光液和合适的化学抛光工艺,可以能够得到光滑、透明的表面,表面粗糙度可降低到100nm;可见光透过率81%~83%。
汤英童袁顺山熊长新
关键词:微晶玻璃化学抛光光学加工
共1页<1>
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