您的位置： 专家智库 > >

刘辉

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：西北工业大学材料学院凝固技术国家重点实验室更多>>
发文基金：中国航空科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇衍射
  • 1篇衍射效应
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀深度
  • 1篇反应离子
  • 1篇反应离子刻蚀
  • 1篇锗
  • 1篇衬底

机构

  • 1篇西北工业大学

作者

  • 1篇张淼
  • 1篇刘正堂
  • 1篇李阳平
  • 1篇郑倩
  • 1篇刘辉

传媒

  • 1篇西北工业大学...

年份

  • 1篇2010
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
锗衬底上锥形二维亚波长结构的制备被引量：1
2010年
为了在Ge衬底上制备出锥形二维亚波长结构,文章研究了紫外接触式光刻工艺和反应离子刻蚀工艺对光刻及刻蚀图形的影响。结果发现:由于紫外光的衍射效应,光刻胶图形顶部出现了凹坑,使其有效抗蚀厚度减小,提高光刻胶图形的有效抗蚀厚度,能有效增加最大刻蚀深度;在设计上适当增大掩膜版图形尺寸,即占空比f要略大于理论设定值,可以弥补后续刻蚀过程占空比的缩小;在刻蚀气体SF6中掺入一定量的O2可明显提高Ge的刻蚀深度;降低横向刻蚀速率,从而有利于制备出锥形浮雕结构。
张淼刘正堂李阳平郑倩刘辉
关键词：反应离子刻蚀衍射效应刻蚀深度
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0