孙孟良
- 作品数：1 被引量：9H指数：1
- 供职机构：上海大学理学院物理系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- 磁场下镍电沉积层织构及表面形貌被引量：9
- 2010年
- 研究了磁场作用下电沉积Ni金属膜的生长过程,磁场与电极表面夹角取35°。测试结果表明电流密度、基底织构和磁场对薄膜的织构和表面形貌均具有重要影响。随着电流密度的增加,薄膜的面外织构由(111)为主变为(200)为主,面内织构显著改善;晶粒尺寸随着电流密度的增加显著增大。在电流密度较小时,磁场的作用比较显著,使得面外(111)晶面取向受到抑制,(200)取向得到增强,面内织构也有一定的改善。同时,磁场使晶粒变小,形状更加规则,整体也更均匀。还对磁场、电流和基底的作用机制进行了分析。
- 刘志勇孙孟良范峰彭麟陈昌兆高波应利良鲁玉明蔡传兵
- 关键词：电沉积织构
