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李世伟

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:合肥工业大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:安徽省高校省级自然科学研究项目中央高校基本科研业务费专项资金中国科学院战略性先导科技专项更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术

主题

  • 2篇电致变色
  • 2篇电致变色器件
  • 2篇溅射
  • 2篇反应磁控溅射
  • 2篇WO
  • 2篇掺氮
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇电致变色薄膜
  • 1篇WO3
  • 1篇WO3薄膜

机构

  • 2篇合肥工业大学

作者

  • 2篇陶磊
  • 2篇李合琴
  • 2篇黄依琴
  • 2篇李世伟
  • 2篇王伟
  • 1篇唐琼
  • 1篇周矗
  • 1篇张静
  • 1篇左敏

传媒

  • 1篇合肥工业大学...
  • 1篇中国有色金属...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
掺氮WO_3电致变色薄膜及器件的制备与性能被引量:1
2016年
文章在氧化铟锡(indium tin oxide,ITO)玻璃上用反应磁控溅射法制备了氮掺杂WO_3薄膜和TiO_2薄膜,并封装制成电致变色器件。用X-ray衍射仪、原子力显微镜、X射线光电子能谱仪对薄膜的结构、形貌、成分和结合键进行表征;采用直流稳压电源和分光光度计对器件的透光变色性能进行测试。结果表明:制备的掺氮WO_3薄膜为非晶态,其非晶衍射包的峰位随着含N量的增加而移动;随着WO_3薄膜中含N量的升高,表面粗糙度增大,器件在着色态透光率降低;掺氮WO_3薄膜中W、O分别以W^(6+)和O^(2-)存在,而N以中性价态、代换O位与W键合以及表面吸附3种状态存在。当掺氮量为2.80%时,电致变色器件调制幅度最大,适用于节能玻璃。
王伟李合琴陶磊乔恺黄依琴李世伟
关键词:反应磁控溅射电致变色器件
掺氮对WO_3薄膜电致变色调制性能的影响
2015年
采用反应磁控溅射法在ITO玻璃上制备氮掺杂氧化钨(WO3:N)薄膜。采用XRD、XPS、AFM对薄膜的结构、成分、结合键和表面形貌进行表征。将WO3:N薄膜封装制成电致变色器件,并采用直流稳压电源和分光光度计对其进行变色调制性能测试。结果表明:制备的WO3:N薄膜为纳米晶结构,其衍射峰位随着含N量的增加而右移;WO3:N薄膜中W、O分别以W6+和O2-存在,而N以中性价态、WO3中的O位替换以及表面吸附3种状态存在;随着WO3:N薄膜中含N量的升高,表面粗糙度逐渐增大,且有利于器件着色;当掺氮2.80%(摩尔分数)时,电致变色器件调制幅度最大为68.8%,比未掺氮器件的高出7.7%,适用于节能玻璃。
王伟李合琴陶磊乔恺周矗张静唐琼黄依琴左敏李世伟
关键词:反应磁控溅射电致变色器件
共1页<1>
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