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杨紫薇

作品数：3 被引量：6H指数：1
供职机构：中国科学院微电子研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 2篇研磨
  • 2篇网格化
  • 2篇接触压
  • 2篇接触压力
  • 2篇仿真
  • 2篇仿真方法
  • 2篇仿真系统
  • 2篇CMP工艺
  • 1篇低功耗
  • 1篇功耗
  • 1篇MCU

机构

  • 3篇中国科学院微...
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 3篇杨紫薇
  • 2篇陈岚
  • 2篇徐勤志
  • 1篇乔树山
  • 1篇袁甲

传媒

  • 1篇微电子学与计...

年份

  • 1篇2020
  • 2篇2017
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
一种CMP工艺仿真方法及仿真系统
本发明公开了一种CMP工艺仿真方法及仿真系统，包括：根据网格化的研磨芯片中任意一网格区域至研磨垫之间的基准高度，建立所述网格区域与研磨垫之间的接触压力的关系式为第一关系式；对所述第一关系式进行积分，并参考所述研磨芯片的图...
徐勤志杨紫薇陈岚
文献传递
一种针对低功耗MCU关断模式的功耗优化方法被引量：6
2017年
本文提出了一种更加有效的待机模式功耗优化方案,一方面进行更加精细的电源控制,尽可能多的切断待机模式的漏电来源;另一方面从电路级优化关断模式下的核心模块-电源控制模块,采用组合逻辑以简化电路,进一步降低功耗.后仿真结果显示,关断模式下的电源控制模块的静态漏电流仅为18.87pA,关断模式总静态电流为20.8nA,并具有较短的状态转换时间.
杨紫薇朱致玖袁甲乔树山
关键词：低功耗MCU
一种CMP工艺仿真方法及仿真系统
本发明公开了一种CMP工艺仿真方法及仿真系统，包括：根据网格化的研磨芯片中任意一网格区域至研磨垫之间的基准高度，建立所述网格区域与研磨垫之间的接触压力的关系式为第一关系式；对所述第一关系式进行积分，并参考所述研磨芯片的图...
徐勤志杨紫薇陈岚
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