毕磊
- 作品数：4 被引量：27H指数：2
- 供职机构：安徽工业大学化学与化工学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金安徽高校省级教学研究项目更多>>
- 相关领域：电子电信文化科学更多>>
- 不同磨料对蓝宝石晶片化学机械抛光的影响研究被引量：21
- 2013年
- 本文制备了几种含不同磨料(SiC、Al2O3、不同粒径SiO2)的抛光液,通过纳米粒度仪分析磨料粒径分布,采用原子力显微镜观察磨料的粒径大小。研究了不同磨料对蓝宝石晶片化学机械抛光(CMP)的影响,利用原子力显微镜检测抛光前后蓝宝石晶片表面粗糙度。实验结果表明,在相同的条件下,采用SiC、Al2O3作为磨料时,材料去除速率与表面粗糙度均不理想;而采用含1%粒径为110 nm SiO2的抛光液,材料的去除速率最高为41.6 nm/min,表面粗糙度Ra=2.3 nm;采用含1%粒径为80 nm SiO2的抛光液,材料的去除速率为36.5 nm/min,表面粗糙度最低Ra=1.2 nm。
- 熊伟储向峰董永平毕磊叶明富孙文起
- 关键词：蓝宝石化学机械抛光去除速率表面粗糙度磨料
- 络合剂对蓝宝石晶片化学机械抛光的影响被引量：5
- 2014年
- 利用自制的抛光液对蓝宝石晶片进行化学机械抛光,研究化学机械抛光过程中抛光压力、抛光液pH值、SiO2浓度、络合剂种类及其浓度等参数对抛光速率的影响,采用MicroNano D-5A扫描探针显微镜观察抛光前后蓝宝石晶片的表面形貌。结果表明:在抛光条件为压力7psi、转速为50 r/min、抛光液流量为60 mL/min,抛光液组成为pH值12、SiO2浓度5%、络合剂Ⅰ及其浓度为1.25%时,得到最大抛光速率为35.30 nm/min,蓝宝石晶片表面质量较好,表面粗糙度Ra达到0.1 nm。
- 熊伟白林山储向峰董永平陈均毕磊叶明富
- 关键词：蓝宝石化学机械抛光抛光速率络合剂
- 制药设备及工艺设计课程教学模式探索
- 2018年
- 制药设备及工艺设计是一门实践性很强的制药工程专业核心课程。针对传统教学模式存在的问题,从认识生产实习、课堂教学及毕业设计三方面对制药设备及工艺设计课程教学模式进行探索。经过上述三个环节的"实践-理论-实践"模式的培养,学生由感性认识上升至理性认识再到实践,实现了理论和实践的有机融合,达到了课程的目的。
- 严菊芬叶明富颜庭轩毕磊谢峻刘祥
- 关键词：教学模式教学改革
- 新建化学生物学专业中进行双语教学的几点设想被引量：2
- 2013年
- 安徽工业大学化学生物学专业是依托中美合资高新生物技术企业开办的新专业。作为一门新兴学科,化学生物学中的大量内容与知识点分散在英文教材和文献中。本文就在安徽工业大学化学生物学专业中进行中英双语教学从师资、学生、教材以及授课方式等方面提出一些思考和建议。
- 毕磊白林山刘祥谢峻
- 关键词：化学生物学双语教学
