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文献类型

  • 11篇中文专利

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 6篇全息
  • 6篇全息光栅
  • 6篇光栅
  • 5篇轴对称
  • 5篇激光
  • 5篇激光二极管
  • 5篇光阑
  • 5篇二极管
  • 3篇快门
  • 3篇光学
  • 3篇光学性
  • 3篇光学性能
  • 3篇光学元件
  • 2篇倒模
  • 2篇三氯
  • 2篇三氯硅烷
  • 2篇全氟
  • 2篇氯硅烷
  • 2篇光源
  • 2篇硅烷

机构

  • 11篇清华大学

作者

  • 11篇王晓浩
  • 11篇周倩
  • 11篇倪凯
  • 11篇李星辉
  • 11篇胡海飞
  • 11篇燕鹏
  • 6篇朱祥文
  • 3篇张锦超

年份

  • 2篇2018
  • 5篇2017
  • 4篇2016
11 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种全息光栅的制作装置
本实用新型公开了一种全息光栅的制作装置,包括光源、准直镜、光阑、分束镜、两面反射镜和光栅基板,其中所述光源采用激光二极管,所述光源、所述准直镜和所述光阑沿光束前进的方向依次共轴排列,所述分束镜设置在所述光束经过所述光阑后...
李星辉倪凯朱祥文周倩王晓浩胡海飞燕鹏
文献传递
一种全息光栅阵列的制作装置
本实用新型公开了一种全息光栅阵列的制作装置,包括光源、准直镜、光阑、快门、分束镜、两面反射镜、光栅基板和移动平台,其中光源采用激光二极管,光源、准直镜和光阑沿光束前进的方向依次共轴排列,分束镜设置在光束经过光阑后的光路上...
李星辉周倩朱祥文倪凯王晓浩胡海飞燕鹏
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一种在光学元件上制作涂镀层的方法及光学元件
一种在光学元件上制作涂镀层的方法,包括如下步骤:鉴别光学元件的表面形貌特征,确定其凹凸形态;对于表面形貌特征确定为凹形态的光学元件,通过PCGrate仿真分析重构光学元件在具有多种不同厚度的涂镀层时的表面形貌,仿真并比较...
王晓浩周倩胡海飞李星辉倪凯燕鹏张锦超逄锦超
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一种抗粘连的三维元件倒模
本实用新型公开了一种抗粘连的三维元件倒模,所述三维元件倒模包括PDMS材料的倒模主体和形成在所述倒模主体的表面上的抗粘连涂层。较佳地,所述抗粘连涂层为1H,1H,2H,2H‑全氟癸基三氯硅烷分子涂层。使用本实用新型的三维...
倪凯周倩胡海飞李星辉燕鹏王晓浩
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一种在光学元件上制作涂镀层的方法及光学元件
一种在光学元件上制作涂镀层的方法,包括如下步骤:鉴别光学元件的表面形貌特征,确定其凹凸形态;对于表面形貌特征确定为凹形态的光学元件,通过PCGrate仿真分析重构光学元件在具有多种不同厚度的涂镀层时的表面形貌,仿真并比较...
王晓浩周倩胡海飞李星辉倪凯燕鹏张锦超逄锦超
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一种全息光栅的制作装置
本发明公开了一种全息光栅的制作装置,包括光源、准直镜、光阑、分束镜、两面反射镜和光栅基板,其中所述光源采用激光二极管,所述光源、所述准直镜和所述光阑沿光束前进的方向依次共轴排列,所述分束镜设置在所述光束经过所述光阑后的光...
李星辉倪凯朱祥文周倩王晓浩胡海飞燕鹏
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一种具有涂镀层的光学元件
本实用新型公开了一种具有涂镀层的光学元件,所述光学元件具有凹形态的表面形貌特征,所述涂镀层的厚度不超过光学元件表面微细结构的最小凹形态尺寸的十分之一。本实用新型针对具有凹形态的表面形貌特征的光学元件所设置的涂镀层厚度,能...
王晓浩周倩胡海飞李星辉倪凯燕鹏张锦超逄锦超
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一种全息光栅的制作装置
本发明公开了一种全息光栅的制作装置,包括光源、准直镜、光阑、分束镜、两面反射镜和光栅基板,其中所述光源采用激光二极管,所述光源、所述准直镜和所述光阑沿光束前进的方向依次共轴排列,所述分束镜设置在所述光束经过所述光阑后的光...
李星辉倪凯朱祥文周倩王晓浩胡海飞燕鹏
一种抗模具粘连的三维元件制作方法及三维元件倒模
一种抗模具粘连的三维元件制作方法及三维元件倒模,该方法包括:A、基于软光刻工艺使用PDMS材料复制三维元件母版,得到PDMS材料的三维元件倒模;B、在步骤A得到的PDMS材料的三维元件倒模的表面,形成一层1H,1H,2H...
倪凯周倩胡海飞李星辉燕鹏王晓浩
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一种全息光栅阵列的制作装置
本发明公开了一种全息光栅阵列的制作装置,包括光源、准直镜、光阑、快门、分束镜、两面反射镜、光栅基板和移动平台,其中光源采用激光二极管,光源、准直镜和光阑沿光束前进的方向依次共轴排列,分束镜设置在光束经过光阑后的光路上,分...
李星辉周倩朱祥文倪凯王晓浩胡海飞燕鹏
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共2页<12>
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