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黄瑞

作品数:1 被引量:0H指数:0
供职机构:上海第二工业大学实验与实训中心更多>>
发文基金:上海第二工业大学校基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇导通
  • 1篇导通电阻
  • 1篇电阻
  • 1篇优化设计
  • 1篇击穿电压
  • 1篇高压LDMO...
  • 1篇比导通电阻
  • 1篇LDMOSF...

机构

  • 1篇上海第二工业...

作者

  • 1篇张永红
  • 1篇黄瑞

传媒

  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 1篇2011
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
两层金属场极板高压LDMOS的优化设计
2011年
采用场极板结终端技术提高LDMOS击穿电压,借助二维器件仿真器MEDICI软件对基于体硅CMOS工艺500V高压的n-LDMOS器件结构和主要掺杂参数进行优化,确定漂移区的掺杂浓度(ND)、结深(Xj)和长度(LD)。对多晶硅场极板和两层金属场极板的结构参数进行模拟和分析,在不增加工艺复杂度的情况下,设计一种新型的具有两层金属场极板结构的500Vn-LDMOS。模拟结果表明,双层金属场极板结构比无金属场极板结构LDMOS的击穿电压提高了12%,而这两种结构LDMOS的比导通电阻(RS)基本一致。
张永红黄瑞
关键词:LDMOSFET击穿电压比导通电阻
共1页<1>
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