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黄瑞
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1
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供职机构:
上海第二工业大学实验与实训中心
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相关领域:
电子电信
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合作作者
张永红
上海第二工业大学实验与实训中心
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上海第二工业...
作者
1篇
张永红
1篇
黄瑞
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微纳电子技术
年份
1篇
2011
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两层金属场极板高压LDMOS的优化设计
2011年
采用场极板结终端技术提高LDMOS击穿电压,借助二维器件仿真器MEDICI软件对基于体硅CMOS工艺500V高压的n-LDMOS器件结构和主要掺杂参数进行优化,确定漂移区的掺杂浓度(ND)、结深(Xj)和长度(LD)。对多晶硅场极板和两层金属场极板的结构参数进行模拟和分析,在不增加工艺复杂度的情况下,设计一种新型的具有两层金属场极板结构的500Vn-LDMOS。模拟结果表明,双层金属场极板结构比无金属场极板结构LDMOS的击穿电压提高了12%,而这两种结构LDMOS的比导通电阻(RS)基本一致。
张永红
黄瑞
关键词:
LDMOSFET
击穿电压
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