卢云霞
- 作品数:2 被引量:5H指数:1
- 供职机构:河北大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金:河北省自然科学基金国家自然科学基金河北省重点基础研究项目更多>>
- 相关领域:理学更多>>
- 表面粗糙氢化非晶硅薄膜光学常量的确定
- 2013年
- 由于光学薄膜的透射光谱和反射光谱受表面粗糙程度的影响很大,因此在确定表面粗糙薄膜的厚度及光学常量时,如果不考虑这种影响必然会引起较大的误差。利用标量波散射理论,引入表面均方根粗糙系数,对粗糙薄膜表面的光散射进行了细致分析,得出了光散射影响下薄膜系统透射系数的表达式。在此基础上计算的薄膜厚度以及透射光谱与制备的氢化非晶硅薄膜的相应测量结果基本一致,由此确定的光学常量也更接近实际量值。该方法的运算过程不基于最小值优化算法,无需复杂软件辅助,是准确确定表面粗糙薄膜的厚度以及光学常量的一种有效方法。
- 丁文革卢云霞马登浩苑静侯玉斌于威傅广生
- 关键词:氢化非晶硅薄膜透射光谱
- 纳米硅结构薄膜光致发光的温度依赖特性被引量:5
- 2012年
- 综合考虑纳米硅结构薄膜的特殊性质,如量子限制效应、光学带隙和光跃迁振子强度对纳米硅粒径的依赖特性以及光学带隙和光辐射的温度依赖特性等,给出了一个解析表达式来分析具有一定粒径分布的纳米硅结构薄膜的光致发光(PL)强度分布,其中选取了两种纳米硅的粒径分布,即高斯分布和对数正态分布。结果表明,随着平均粒径和粒径分布偏差的减小,纳米硅薄膜的PL谱峰蓝移。随着环境温度的升高,纳米硅结构薄膜的PL谱峰红移且相对发光强度减弱。纳米硅结构薄膜光辐射拟合的结果与实验数据的比较分析表明,该模型能够很好地解释纳米硅结构薄膜在不同温度下的PL特性。
- 丁文革卢云霞孙雪桑云刚滕晓云于威傅广生
- 关键词:纳米硅光致发光