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仝俊利

作品数:1 被引量:1H指数:1
供职机构:河南科技大学材料科学与工程学院更多>>
相关领域:理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电化学
  • 1篇电化学性能
  • 1篇氧化镍薄膜
  • 1篇直流
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米晶
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积

机构

  • 1篇河南科技大学

作者

  • 1篇张宏斌
  • 1篇蔡羽
  • 1篇赵胜利
  • 1篇祝要民
  • 1篇仝俊利

传媒

  • 1篇金属热处理

年份

  • 1篇2008
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
直流溅射沉积纳米晶氧化镍薄膜及电化学性能被引量:1
2008年
采用直流溅射并结合热处理工艺制备氧化镍薄膜,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、能谱仪(EDX)考察退火温度对薄膜结构、形貌和组成的影响,并通过恒流充放电技术初步考察薄膜的电化学性能。结果表明,在400~500℃退火温度下制备了表面光滑、结构致密的NiO薄膜;随着退火温度的升高,薄膜的晶粒尺寸逐渐增大,晶形趋于完整;其中,500℃下退火2h获得的NiO薄膜具有良好的电化学循环稳定性,有望成为高性能的全固态薄膜锂电池阳极材料。
蔡羽仝俊利张宏斌赵胜利祝要民
关键词:氧化镍薄膜电化学性能
共1页<1>
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