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刘源

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：三峡大学理学院更多>>
发文基金：中国博士后科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇氧化硅
  • 1篇硅基
  • 1篇二极管
  • 1篇二氧化硅
  • 1篇硅
  • 1篇磁电
  • 1篇磁电阻
  • 1篇磁电阻效应
  • 1篇磁阻

机构

  • 1篇三峡大学

作者

  • 1篇谭新玉
  • 1篇朴红光
  • 1篇刘源

传媒

  • 1篇三峡大学学报...

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
界面二氧化硅层对二极管辅助硅基磁电阻效应影响的研究被引量：1
2014年
本文制备了二极管辅助的晶体硅磁阻(magnetoresistance,MR)器件,研究了界面二氧化硅层的磁阻放大作用及器件在硅基磁电子器件中的可能应用.通过有与无二氧化硅层的实验对比,发现引入二氧化硅层后器件的磁阻在室温和1.2T磁场下达到了527%,磁阻性能提升了76%以上.通过对无磁场作用下伏安特性的测量,证明了氧化硅层的引入增加了界面电阻,通过等效电路分析,对相关机理进行了讨论.这项工作将为硅基磁电子器件的可能应用提供一种新的方法.
刘源谭新玉朴红光
关键词：硅磁阻二氧化硅二极管
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