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文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇旋转圆柱
  • 1篇圆柱
  • 1篇孪生
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇溅射气压
  • 1篇产额
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇山东皇明太阳...

作者

  • 1篇王双
  • 1篇池华敬
  • 1篇章其初
  • 1篇陈革
  • 1篇孟秀清
  • 1篇尚航

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 1篇2010
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
旋转圆柱靶溅射沉积产额分布被引量:1
2010年
采用数值计算模型,计算了旋转圆柱靶溅射产额分布。数值计算中假设从靶溅射出来的粒子服从余弦函数定律。计算得到的单靶溅射产额分布和Al靶在Ar气压0.4Pa测量得到的实验值基本相同。同时计算了孪生旋转圆柱靶的溅射产额分别与靶基距、靶间距,以及靶旋转角度的相关性。
孟秀清王双尚航池华敬陈革章其初
关键词:磁控溅射溅射气压
共1页<1>
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