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杨宽

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:中国科学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 1篇等离子体
  • 1篇低气压
  • 1篇氧化层
  • 1篇钢表面
  • 1篇除鳞

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇宝山钢铁股份...

作者

  • 2篇朱晓东
  • 2篇杨宽
  • 1篇吴瑞珉
  • 1篇杨赛丹
  • 1篇汤中亮

传媒

  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇第十五届全国...

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2011
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
RF等离子体沉积硅基纳米结构研究
<正>一维硅基纳米结构的可控生长,包括结构和物理特性的控制,一直是纳米结构生长研究的重要方向,尤其是纳米线的定向生长,掺杂等方面的研究备受期待。在容性耦合射频放电六甲基乙硅氧烷(HMDSO)/氢气(H_2)等离子体中沉积...
柯博陈牧笛杨宽朱晓东
文献传递
低气压阴极弧斑等离子体除去钢表面氧化层的实验研究
2014年
进行了低气压下直流阴极弧斑等离子体去除钢铁表面氧化层(除鳞)的实验研究,利用高速相机和示波器对放电过程进行了诊断。实验表明,阴极弧斑在样品表面快速随机运动。由于弧斑具有极高的电流密度,产生的局部高温使阴极弧斑下方的氧化层被瞬间蒸发、分解。除鳞后样品表面X射线衍射和扫描电镜分析表明,弧斑等离子体能有效地除去钢铁表面氧化层。放电电流是决定除鳞快慢的一个重要参数,单位时间除鳞的面积随放电电流的增大而增加,呈现线性关系,这与依据非静态爆裂ecton模型给出的分析结果相符合。
汤中亮吴瑞珉杨赛丹杨宽朱晓东
关键词:等离子体氧化层除鳞
共1页<1>
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