何峰
- 作品数：4 被引量：15H指数：2
- 供职机构：电子科技大学光电信息学院电子薄膜与集成器件国家重点实验室更多>>
- 发文基金：电子薄膜与集成器件国家重点实验室基础研究开放创新基金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 衬底材料对光刻机对准精度的影响研究
- 随着光刻机技术的发展,特征线宽尺寸减少到纳米级,对光刻机对准系统提出了更高的对准精度的性能指标。对准系统是光刻机最精密复杂的部分,不同的工艺条件,尤其是不同的衬底材料对对准系统的精度都会产生显著影响。阐述了Nikon步进...
- 何峰吴志明王军袁凯蒋亚东
- 关键词：衬底材料
- 文献传递
- 光敏聚酰亚胺牺牲层工艺研究被引量：8
- 2010年
- 微机电系统(Micro Electromechanical System,MEMS)作为微电子技术应用的新突破,促进了现代信息技术的发展。牺牲层技术是MEMS应用的关键。介绍了光敏性聚酰亚胺作为牺牲层材料的优势,研究了工艺中光敏聚酰亚胺的厚度控制、亚胺化过程以及牺牲层的去除。并讨论了各工艺的最优化,制备了性能稳定的悬桥结构。
- 彭自求王军袁凯何峰蒋亚东
- 关键词：牺牲层技术光敏聚酰亚胺亚胺化
- Nikon光刻机对准系统概述及模型分析被引量：7
- 2009年
- 对准系统是光刻机中最精密复杂的部分,掌握对准原理是设计和使用光刻机的关键之一。阐述Nikon步进投影光刻机(Stepper)的对准机制,详细介绍目前应用于Nikon步进光刻机硅片对准的三种对准方式:LSA、FIA、LIA,比较它们的优缺点。并结合数学模型对影响Nikon对准模型信号强度进行分析,为提高对准精度提供了依据,对实际应用有一定的指导作用。
- 何峰吴志明王军袁凯蒋亚东李正贤
- 关键词：步进光刻机
- Nikon步进重复光刻机的对位机制被引量：2
- 2009年
- 具体探讨了Nikon步进重复光刻机掩膜版和硅片的对位过程及硅片对位结果的检测方法。分析了硅片对位过程中产生的对偏现象,用EGA算法对对偏进行计算和补偿,同时探讨了对偏产生的原因及对应的处理方法,给掩膜—硅片的对位过程中出现的问题提供了解决方案。
- 陈德鹅吴志明王军袁凯何峰蒋亚东
- 关键词：光刻
