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张平

作品数:4 被引量:1H指数:1
供职机构:东南大学电子科学与工程学院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 1篇低压
  • 1篇英文
  • 1篇运算放大器
  • 1篇运算放大器设...
  • 1篇视频
  • 1篇视频采集
  • 1篇体视觉
  • 1篇图像
  • 1篇图像处理
  • 1篇图像处理系统
  • 1篇全摆幅
  • 1篇紫外
  • 1篇紫外可见
  • 1篇紫外可见光谱
  • 1篇紫外可见光谱...
  • 1篇紫外可见吸收...
  • 1篇吸收光谱
  • 1篇系统设计
  • 1篇立体视
  • 1篇立体视觉

机构

  • 4篇东南大学

作者

  • 4篇张平
  • 2篇夏军
  • 2篇汤勇明
  • 1篇张浩康
  • 1篇吴忠
  • 1篇樊路嘉
  • 1篇周昕杰
  • 1篇李栋良
  • 1篇刘力宇
  • 1篇王乐
  • 1篇黄瑞坤
  • 1篇蒋健
  • 1篇许立峰

传媒

  • 1篇液晶与显示
  • 1篇电脑知识与技...
  • 1篇电子器件
  • 1篇2014中国...

年份

  • 2篇2014
  • 2篇2007
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
紫外可见光谱法测量光刻胶的膜厚(英文)
2007年
在液晶显示器的制造过程中,光刻是极为重要的制造工艺过程之一。将厚的独立的负胶膜或者将光刻胶涂敷在二氧化硅衬底上以后,可以测量其膜厚,因为光刻胶膜厚决定其光刻工艺的工艺条件。能够快速地测量光刻胶的膜厚,是液晶显示器制造过程的先决性工作的一部分。文章提出了测量上述光刻胶膜厚的新方法,即利用紫外可见吸收光谱法中的Beer-Lambert定律来确定膜厚。在我们的研究中,采用acrylic负胶作为基质(resin) ,它分别具有50μm和100μm的膜厚。在350 nm时,50μm的薄膜的最大吸收为0 .728 ,而100μm的最大吸收为1 .468 5。而在正胶的研究中,采用novolac作为基质(resin)。它的膜厚通常是1 ~5μm。在紫外可见吸收光谱测膜厚的实验中,当重氮荼醌的吸收波长为403 .8 nm时,5 .93μm厚的薄膜的最大吸收为1 .757 4 ,其膜厚是由扫描电镜测得的。而另一个正胶薄膜在403 .8 nm的最大吸收为0 .982 3 ,其薄膜厚度计算得到为3 .31μm。利用这些数据,我们得到了这两种光刻胶薄膜的紫外可见吸收光强与其膜厚关系的两个校准曲线。
王乐刘力宇张浩康樊路嘉张鲁川杨勇黄瑞坤周昕杰李栋良张平
关键词:紫外可见吸收光谱LAW
面向裸眼3D显示的实时多视角视频采集系统设计被引量:1
2014年
针对裸眼3D显示屏研究了一种实时多视角视频采集系统。该系统使用高清网络摄像头阵列进行多视点原始画面拍摄,通过网络传输视频流,视频数据经过解码、矫正、合成等处理后变为具有多个视点(水平方向)的实时视频图像。实验结果表明,该系统较好地解决了实际拍摄中存在的畸变、图像对齐等问题,实现了实时4个视点(水平方向)的全高清视频输出,能直接在特定的裸眼3D显示器上观看。
张平汤勇明夏军吴忠
关键词:立体视觉
实时多视角裸眼3D图像处理系统的软件优化
3D视频近年来发展迅速,3D显示设备日趋完善,构建实时3D视频源将是未来立体显示中的关键技术.本文在实时多视点裸眼3D图像处理系统的平台上,为了改善3D视频输出的清晰度以及程序的运行效率,从系统层次、算法层次和代码层次对...
蒋健张平夏军汤勇明
关键词:图像处理系统
文献传递
低压、恒跨导、全摆幅CMOS运算放大器设计
2007年
设计和研究了一种新型的低压、恒跨导的全摆幅运算放大器,输入级采用带有补偿差分对的差分输入结构,输出为推挽结构,其输入输出均为全摆幅,整个电路采用标准的0.5um CMOS工艺参数进行设计,工作电压为3.0V低电源电压.模拟结果显示,在10KΩ和5pF电容负载下,运算放大器的直流开环增益为70dB,相位裕度72°,单位增益带宽为3.8MHz.
许立峰张平
关键词:低压恒跨导全摆幅
共1页<1>
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