您的位置: 专家智库 > >

李发明

作品数:2 被引量:0H指数:0
供职机构:重庆邮电大学光电工程学院更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇镀膜
  • 1篇雪崩
  • 1篇雪崩光电二极...
  • 1篇增透
  • 1篇增透膜
  • 1篇四象限
  • 1篇腔面
  • 1篇腔面镀膜
  • 1篇响应度
  • 1篇脉冲激光
  • 1篇脉冲激光沉积
  • 1篇激光
  • 1篇激光器
  • 1篇光电
  • 1篇光电二极管
  • 1篇二极管
  • 1篇高反膜
  • 1篇暗电流
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体激光

机构

  • 2篇重庆邮电大学

作者

  • 2篇刘方楠
  • 2篇李发明
  • 2篇王致远

传媒

  • 1篇光通信研究
  • 1篇中国材料科技...

年份

  • 2篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
半导体激光器腔面镀膜技术研究进展
2007年
本文介绍了近年来半导体激光器腔面镀膜技术的研究进展,重点综述了膜系设计,工艺技术、薄膜材料及测试技术等几个方面的研究热点和重要成果,最后还对半导体激光器腔面镀膜的未来进行展望。
王致远刘方楠李发明
关键词:增透膜高反膜脉冲激光沉积
四象限InGaAs APD探测器的研究
2007年
文章中设计的四象限InGaAs雪崩光电二极管(Avalanche Photo Diode,APD)的管芯结构采用正入光式平面型结构,而材料结构采用吸收区、倍增区渐变分离的APD结构,在对响应时间、暗电流和响应度等参数进行计算与分析的基础上,优化了器件结构参数。试验结果表明,其响应时间≤1.5 ns,响应度≥9.5 A/W,暗电流≤40 nA,可靠性设计时使PN结和倍增层均在器件表面以下,可有效抑制器件表面漏电流,提高器件的可靠性。
王致远李发明刘方楠
关键词:响应度暗电流
共1页<1>
聚类工具0