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酸性铬蓝K修饰电极的制备及其对抗坏血酸的测定: 2014年; 应用电化学方法将酸性铬蓝K固定在玻碳电极（ GCE）表面上而制备出新型的修饰电极，并用循环伏安法对其电化学行为进行表征，考察了其对抗坏血酸的电催化性能。结果表明：在HAc-NaAc缓冲溶液（pH=3.6）中，-200-800 mV电位扫描范围内，抗坏血酸在此修饰电极上发现有一个氧化峰，并且此峰的高度和抗坏血酸的浓度成正比关系。在选定的最佳条件下，氧化峰电流与抗坏血酸的浓度在8×10^-8-1×10^-3 mol·L^-1范围内有良好的线性关系（R=0.9992），检出限为2×10^-8mol·L^-1（信噪比3∶1），并用于实际样品分析中，得到较满意的结果。; 陈彦玲赵鹏王一展; 关键词：修饰电极电沉积循环伏安法抗坏血酸

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王一展