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高密度磁记录用FePt/Ta多层膜微结构与磁性: 2006年; 采用直流对靶磁控溅射方法生长了FePt／Ta多层膜．X射线衍射（XRD）分析表明[FePt（2．5nm）／Ta（2．5nm）]5样品经过650℃退火实现了从无序到有序的转变．磁测量表明当Ta层厚度为2．5nm时。FePt的磁特性达到最好，矫顽力为543．4kA·m^-1，矩形比也达到最大（0．80559）．原子力显微图观察发现，650℃退火后的样品纳米晶粒分布比较均匀。粒径大约为10～20nm．磁力显微图观察说明大量粒子取向一致．计算得到激活体积远大于晶粒体积的事实说明薄膜的磁化反转过程主要是由磁矩转动控制的．; 甄聪稀甄聪棉翟晓霞马丽聂向富; 关键词：磁记录 FEPT 多层膜 XRD VSM

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甄聪稀