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郭为

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：中国科学院过程工程研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇脱硅
  • 1篇偏铝酸钠
  • 1篇脱铝
  • 1篇铝硅
  • 1篇铝酸钠
  • 1篇铬酸
  • 1篇铬酸钠
  • 1篇铬酸钠溶液

机构

  • 1篇北京化工大学
  • 1篇中国科学院过...

作者

  • 1篇齐涛
  • 1篇王京刚
  • 1篇余志辉
  • 1篇曲景奎
  • 1篇韩晓英
  • 1篇郭为

传媒

  • 1篇过程工程学报

年份

  • 1篇2011
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除被引量：3
2011年
采用铝硅含量分别为189.65和51.08mg/L的铬酸钠配制溶液,通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅.常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6,无需CaO添加剂,60℃下反应40min,几乎可完全脱除杂质硅;在高压釜中通过调节CO2压力为0.4MPa,60℃下反应20min,几乎能完全脱除杂质铝.化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别.高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应,溶液pH值随反应进行逐渐降低,趋于稳定,显示碳化反应近于平衡.
郭为余志辉王京刚曲景奎齐涛韩晓英
关键词：铬酸钠偏铝酸钠脱硅脱铝
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