刘泉水
- 作品数：3 被引量：0H指数：0
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- 相关领域：电子电信一般工业技术电气工程更多>>
- 溶剂蒸汽压对溶液法制备PVP绝缘膜的影响
- 2015年
- 利用溶剂蒸汽辅助旋涂和辅助退火(SVA)工艺制备了PVP栅绝缘膜,并研究了SVA过程中溶剂蒸汽压对PVP膜特性的影响。根据椭偏光谱的柯西模型和有效介质近似(EMA)模型,对椭偏谱参数拟合分析得到了PVP膜光学参数与其微结构的关系。拟合结果表明,随着蒸汽压的增大,PVP膜总厚度(均小于30nm)和粗糙层厚度均降低,膜致密性得到改善。由这种膜构成的MIS结构的J-V特性测试结果显示,当蒸汽压由0.21增加至0.82时,在电场为5 MV/cm的条件下,其漏电流密度由1.04×10-6 A/cm2降至1.42×10-7 A/cm2。而且在蒸汽压为0.82时可得到膜厚仅约为20nm、单位面积电容达到145nF/cm2的超薄PVP膜。
- 刘泉水韩先虎钱峰钟传杰
- 关键词：椭偏光谱
- 溶剂沸点对旋涂Rubrene薄膜性能的影响
- 2016年
- 研究了溶剂沸点对溶液法制备Rubrene薄膜特性的影响。使用苯甲醚、氯苯、甲苯和氯仿等溶剂旋涂制备了Rubrene薄膜,并使用椭偏仪对其光学参数进行研究,采用空间电荷限制电流法获得薄膜电学特性。当使用高沸点的苯甲醚作溶剂时,获得的Rubrene薄膜迁移率为1.58×10-5 cm2/(V·s),薄膜折射率最大,薄膜均一性和致密性较好,粗糙层厚度最小,仅为11.92nm;而采用低沸点的氯仿作溶剂时,获得的Rubrene薄膜迁移率仅为1.07×10-10 cm2/(V·s)。研究结果表明,溶剂的沸点对Rubrene薄膜特性有较大影响,高沸点的溶剂容易获得性能优良的薄膜。
- 韩先虎钱峰刘泉水钟传杰
- 关键词：RUBRENE椭偏光谱
- 水热处理对ZnO薄膜微结构及光学性能的影响
- 2015年
- 基于溶液工艺和水热处理制备了ZnO薄膜。采用椭圆偏振光谱分析仪,原子力显微镜,X射线衍射仪研究和分析了水热处理温度对薄膜的微观形貌,光学特性,晶体结构的影响。实验结果表明,水热处理温度由110℃升高到130℃,薄膜光学带隙由3.19eV增大到3.31eV,而薄膜表面粗糙度从19.3nm降到12.9nm。然而,当处理温度超过140℃后,与130℃下处理的膜相比质量显著劣化。此外,130℃下水热处理的膜与500℃下高温退火的膜对比表明水热法有相似的光学特性,同时,XRD分析表明水热处理能改善晶体特性。证明了利用水热处理能够极大地降低溶液法制备ZnO薄膜所需的退火温度。
- 钱峰刘泉水韩先虎钟传杰
- 关键词：ZNO薄膜微观形貌禁带宽度
