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周庚衡

作品数：1 被引量：2H指数：1
供职机构：哈尔滨工业大学材料科学与工程学院更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇直流磁控
  • 1篇直流磁控溅射
  • 1篇偏压
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇膜厚
  • 1篇溅射
  • 1篇FE-N薄膜
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁性能
  • 1篇粗糙度

机构

  • 1篇哈尔滨工业大...
  • 1篇吉林大学

作者

  • 1篇薛宗伟
  • 1篇李伟力
  • 1篇周庚衡
  • 1篇郑晓航

传媒

  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2008
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
偏压对直流磁控溅射Fe-N薄膜结构及性能的影响被引量：2
2008年
为了揭示偏压对溅射态Fe-N薄膜磁学行为的影响规律及机理,采用直流磁控溅射工艺在不同偏压下制备了Fe-N薄膜.利用掠入射X射线衍射、小角X射线散射技术和振动样品磁强计研究了薄膜的相结构、厚度、表面粗糙度以及磁性能.结果表明,增加偏压有利于薄膜中非晶的形成,且随着偏压的增大,薄膜的厚度增加,表面粗糙度降低.Fe-N薄膜的磁性能表明,随着偏压的增加,薄膜的饱和磁化强度和矫顽力均有不同程度的减小.偏压的增加导致Fe-N薄膜由晶态向非晶态转变,从而引起磁性能的改变.
李伟力郑晓航周庚衡薛宗伟
关键词：FE-N薄膜偏压膜厚表面粗糙度磁性能
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