您的位置： 专家智库 > >

郭永峰

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：哈尔滨工业大学机电工程学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金黑龙江省教育厅资助项目黑龙江省自然科学基金更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇单晶
  • 2篇单晶硅
  • 2篇AFM
  • 1篇动力学
  • 1篇氧化硅
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇热力学
  • 1篇微结构
  • 1篇化学动力学
  • 1篇化学反应
  • 1篇化学热力学
  • 1篇碱溶液
  • 1篇二氧化硅

机构

  • 2篇哈尔滨工业大...
  • 2篇黑龙江大学
  • 1篇华南理工大学

作者

  • 2篇袁福龙
  • 2篇闫永达
  • 2篇梁迎春
  • 2篇郭永峰
  • 1篇李丽
  • 1篇朱宇君
  • 1篇袁博

传媒

  • 1篇黑龙江大学自...
  • 1篇黑龙江大学工...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2006
共 2 条 记 录，以下是 1-2
全选 清除 导出
排序方式：
利用AFM对单晶硅表面加工化学反应理论分析
2010年
以原子力显微镜为工具,在空气条件下对单晶硅片表面加工得到下凹的三维微结构。给出了AFM金刚石针尖在对单晶硅的微加工中的化学反应和加工模型。对加工条件下发生的化学反应及其原理进行了理论分析。用化学热力学定律、化学动力学原理和相关的热力学数据自由能、生成热、化学键能、活化能等分析加工过程中发生的反应是空气中O2与单晶硅Si反应生成二氧化硅的过程;金刚石针尖磨损发生的反应主要是空气中O2与金刚石针尖C反应生成CO2的过程。
袁福龙朱宇君闫永达袁博郭永峰梁迎春
关键词：AFM二氧化硅化学热力学化学动力学
利用AFM和碱溶液在单晶硅表面微加工及其电化学机理
2006年
用AFM在单晶硅片(100)表面上加工出一微结构表面,而且加工过程中单晶硅的表面生成很薄的二氧化硅保护层,使其置于氢氧化钾溶液中刻蚀加工可得到微结构(长×宽:10μm×10μm)。加工过程中利用二氧化硅和单晶硅与氢氧化钾溶液化学反应速率的不同,以及单晶硅不同晶面与氢氧化钾溶液反应速率的各向异性达到加工目的,并应用化学键理论—能带理论对在KOH水溶液中加工反应的机理进行了分析。
袁福龙郭永峰梁迎春李丽闫永达
关键词：单晶硅微结构
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0