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任丁

作品数：3 被引量：0H指数：0
供职机构：教育部更多>>
相关领域：一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇国内会议论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇纳米
  • 2篇CU
  • 2篇MO
  • 2篇W
  • 1篇调幅
  • 1篇多层膜
  • 1篇多孔硅
  • 1篇形貌
  • 1篇偏压
  • 1篇纳米多层膜
  • 1篇纳米复合薄膜
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射沉积
  • 1篇硅表面
  • 1篇辐照损伤
  • 1篇SRIM
  • 1篇HE
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射沉积

机构

  • 3篇教育部

作者

  • 3篇任丁
  • 2篇刘波
  • 2篇林黎蔚
  • 1篇植超虎
  • 1篇黄宁康
  • 1篇展长勇
  • 1篇蒋稳
  • 1篇伍建春
  • 1篇张彦坡
  • 1篇邹宇
  • 1篇李佳峻

年份

  • 3篇2013
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
多孔硅表面磁控溅射沉积钛膜的形貌研究
采用磁控溅射的方法来分别在随机刻蚀的多孔硅和孔径2.5μm、12μm、15μm的多孔硅阵列上沉积钛膜。分别讨论了加偏压和不加偏压条件下沉积的钛膜的形貌,及多孔硅的刻蚀形貌对钛膜的影响。研究表明:未加偏压时,钛膜在多孔硅阵...
展长勇蒋稳邹宇任丁伍建春黄宁康
关键词：多孔硅磁控溅射偏压
文献传递
SRIM模拟W(Mo)/Cu纳米复合薄膜He+离子辐照损伤
用磁控溅射技术制备不同调幅波长（L）的W（Mo）/Cu纳米多层膜,所制膜系在60 KeV氦离子（He+）辐照条件下注入不同剂量:0、1×1017He+/cm2、5×1017He+/cm2。利用SRIM软件模拟上述不同调幅...
林黎蔚李佳峻刘波任丁
关键词：SRIM辐照损伤
文献传递
调幅W(Mo)/Cu纳米多层膜结构He+注入响应行为初探
用磁控溅射技术制备不同调幅波长(L)的W(Mo)/Cu纳米多层膜,所制膜系在60 keV氦离子(He+)辐照条件下注入不同剂量:0、1×1017 He+/cm2、5×1017He+/cm2。用X射线衍射仪(XRD)和扫描...
刘波植超虎张彦坡任丁林黎蔚
文献传递
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