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马昆松

作品数:4 被引量:3H指数:1
供职机构:北京理工大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 2篇压痕
  • 2篇输运
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米压痕
  • 1篇电子背散射衍...
  • 1篇英文
  • 1篇质谱
  • 1篇退火
  • 1篇退火处理
  • 1篇气相沉积
  • 1篇热力学计算
  • 1篇温度场
  • 1篇温度场模拟
  • 1篇相成分
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇辉光放电质谱
  • 1篇SEM
  • 1篇TEM
  • 1篇XRD

机构

  • 4篇北京理工大学
  • 2篇中国航天

作者

  • 4篇马昆松
  • 3篇于晓东
  • 3篇谭成文
  • 3篇吕延伟
  • 1篇才鸿年
  • 1篇马红磊
  • 1篇孙铁峰

传媒

  • 1篇稀有金属材料...
  • 1篇人工晶体学报

年份

  • 1篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2009
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
化学输运法制备钨单晶涂层及其表征
以晶体生长理论为基础,采用化学气相沉积工艺在常压下高效制备了高纯钨管,随后以制备的高纯钨管为原料在真空条件下通过化学输运方法在钼单晶棒表面制备出大面积特定晶体学取向的钨单晶涂层。利用X射线衍射和电子背散射衍射技术对制备的...
吕延伟谭成文于晓东马昆松
文献传递
化学输运法制备钨单晶涂层及其表征
2010年
以晶体生长理论为基础,采用化学气相沉积工艺在常压下高效制备了高纯钨管。随后,以制备的高纯钨管为原料,在真空条件下通过化学输运方法在钼单晶棒表面制备出大面积特定晶体学取向的钨单晶涂层。利用X射线衍射和电子背散射衍射技术对获得的钨涂层进行了单晶定性和晶体质量分析;采用辉光放电质谱法对其进行了纯度测定;通过对单晶涂层进行纳米压痕实验和扫描电镜观察,获得了其微观力学性能和形貌等相关结果。结果表明,采用化学输运方法可以制备出具有特定晶体学取向、结晶完整性好和纯度极佳的高纯钨单晶涂层。
吕延伟于晓东谭成文马昆松马红磊
关键词:化学气相沉积电子背散射衍射辉光放电质谱纳米压痕
β-W对CVD钨材料压缩性能的影响(英文)被引量:3
2011年
采用冷壁化学气相沉积系统,利用H2还原WF6工艺,在纯铜管表面制备获得了高纯钨材料。在440°C沉积温度下,得到具有混合相的钨管,其压缩性能远低于在540°C条件下得到的只具有α相的钨管。由此表明,β-W的出现极大地降低了钨管的压缩性能。在400°C条件下,对具有混合相的钨管进行1h保护气氛退火后,钨管材料中的β相消失,同时其压缩性能与只具有α相的沉积态钨管相近。
吕延伟于晓东谭成文孙铁峰马昆松才鸿年
关键词:相成分退火处理
钨单晶涂层的化学气相输运制备及表征
马昆松
关键词:热力学计算温度场模拟XRDSEM纳米压痕TEM
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