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刘文兴

作品数:3 被引量:11H指数:2
供职机构:南昌大学理学院物理系更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点实验室开放基金江西省自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇溅射气压
  • 2篇溅射制备
  • 2篇ALN薄膜
  • 2篇磁控
  • 1篇有限元
  • 1篇有限元法
  • 1篇直流磁控
  • 1篇声波
  • 1篇声学
  • 1篇透过率
  • 1篇面粗糙度
  • 1篇DC
  • 1篇表面粗糙度
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备
  • 1篇粗糙度

机构

  • 3篇南昌大学

作者

  • 3篇刘文兴
  • 2篇赖珍荃
  • 2篇邹文祥
  • 1篇李海翼
  • 1篇王同标
  • 1篇于天宝
  • 1篇何灵娟
  • 1篇廖清华

传媒

  • 1篇南昌大学学报...
  • 1篇光子学报
  • 1篇声学技术

年份

  • 1篇2019
  • 2篇2011
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
直流磁控溅射制备AlN薄膜的结构和表面粗糙度被引量:7
2011年
采用直流磁控反应溅射法,在Si(111)基底上成功制备了多晶六方相AlN薄膜.研究了溅射过程中溅射气压对薄膜结构和表面粗糙度的影响.结果表明:当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态,在傅里叶变换红外光谱中,没有明显的吸收峰;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的X射线衍射图中均出现了六方相的AlN(100)、(110)和弱的(002)衍射峰,说明所制备的AlN薄膜为多晶态,在傅里叶变换红外光谱中,在波数为677 cm-1处有明显的吸收峰;随着溅射气压的增大,薄膜表面粗糙度先减小后增大,而薄膜的沉积速率先增大后减少,且沉积速率较大有利于减小薄膜的表面粗糙度;在溅射气压为0.6 Pa时,薄膜具有最小的表面粗糙度和最大的沉积速率.
邹文祥赖珍荃刘文兴
关键词:ALN薄膜溅射气压表面粗糙度
应用单层超表面实现声波宽角度非对称传输被引量:1
2019年
利用单层梯度超表面结构,设计并模拟验证了一种实现声波非对称传输的方法,在较宽的角度范围内实现了高对比度的声波非对称传输。经过恰当的超表面结构设计后,负折射现象实现了声波的正向导通;高阶衍射的抑制导致了反向入射的声波传输被禁止。基于广义斯涅耳定律分析了非对称传输的原理,采用有限元法的数值模拟结果很好地验证了理论分析。研究结果在噪声控制、超声整流或治疗等方面具有潜在的应用价值。
李冰徐辉宇何灵娟于天宝刘文兴王同标刘念华廖清华
关键词:有限元法
溅射气压对DC磁控溅射制备AlN薄膜的影响被引量:3
2011年
采用DC反应磁控溅射法,在Si(111)和玻璃基底上成功的制备了AlN薄膜。研究溅射过程中溅射气压对薄膜性能的影响。结果表明:薄膜中原子比N/Al接近于1;当溅射气压低于0.6 Pa时,薄膜为非晶态;当溅射气压不低于0.6 Pa时,薄膜的XRD图中均出现了6方相的AlN(100)、(110)和弱的(002)衍射峰,说明所制备的AlN薄膜为多晶态;气压为0.6 Pa时对应衍射峰的半高峰宽较小,薄膜的结晶性较好,随着溅射气压的继续增大,薄膜结晶性变差;在不同的溅射气压(0.6-1.0 Pa)下,AlN薄膜在250-1 000 nm波长范围内的透过率均在82%以上,且随溅射气压的增大略有升高。
赖珍荃邹文祥李海翼刘文兴
关键词:ALN薄膜磁控溅射溅射气压透过率
共1页<1>
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