方明
- 作品数：4 被引量：3H指数：1
- 供职机构：北京印刷学院更多>>
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- 相关领域：一般工业技术理学化学工程电气工程更多>>
- 氧化铝包覆多孔二氧化锡光阳极的制备及在染料敏化太阳能电池中的应用
- 原子层沉积技术(ALD)是一种自限制的薄膜生长方法,主要依靠前驱体源的交替吸附、反应,完成薄膜的生长,所需温度较低。正是由于这些特性,使其在薄膜制备方面表面出很多的优点:良好的重复性和大范围的均匀性;厚度的精确控制;生长...
- 方明董婉刘文雅张春梅孟涛陈强
- 关键词：染料敏化太阳能电池二氧化锡
- 文献传递
- 原子层沉积制备氧化锌纳米薄膜的光学性质研究被引量：2
- 2016年
- 采用原子层沉积技术(ALD),以二乙基锌和水为前驱体,在衬底温度分别为110和190℃的条件下制备了致密的氧化锌纳米薄膜。采用X射线光电子能谱,荧光光谱和椭偏仪等表征手段对薄膜的成分和光学性质进行了研究。结果表明,随着沉积温度的增加,氧化锌薄膜内—OH含量降低,说明氧化锌薄膜生长过程中的化学反应更加完全;另外,沉积温度增加后,薄膜在365nm处的激子发射峰出现了明显的增强,同时可见光区的荧光发射峰消失,表明薄膜内的缺陷态减少。随着成膜质量的提高,氧化锌薄膜的电子迁移率从25提高至32cm^2·(V·S)^(-1)。椭偏测量的拟合结果表明,在375~800nm的波长范围内,氧化锌薄膜的折射率逐渐从2.33降至1.9,呈现出明显的色散现象;另外,不同温度下制备的氧化锌薄膜光学带隙均为3.27eV左右,这说明沉积温度对薄膜的带隙没有明显影响。
- 张春梅王东栋方明张翱汪筱雨陈强孟涛
- 关键词：原子层沉积氧化锌薄膜光学特性
- 氧等离子体辅助原子层沉积氧化铝的研究
- 2016年
- 本文研究氧等离子体辅助原子层沉积氧化铝中各个沉积参数对薄膜性能和结构的影响。在氧等离子体辅助原子层沉积氧化铝的过程中,通过改变基底温度、等离子体放电时间、等离子体放电功率、单体三甲基铝冲洗时间和反应气体氧气冲洗时间,研究了工艺参数对于氧化铝的生长的影响。通过发射光谱仪(OES)对等离子体进行检测,原子力显微镜(AFM)和椭偏(SE)对薄膜表面形貌、厚度和折射率进行测量及SEM对薄膜断面进行检测。结果显示,在室温下氧等离子体辅助氧化铝沉积需要较长的单体三甲基铝的冲洗时间才能得到粗糙度小的薄膜,薄膜沉积速率随温度的升高而减小(低的沉积温度),薄膜的折射率则变大。而等离子体在40W到80W的低放电功率下,放电功率对氧化铝的沉积速率影响不大。
- 方明桑立军杨丽珍陈强
- 关键词：氧化铝原子层沉积OES
- 离子体辅助TMA催化TPS快速原子层沉积SiO2研究
- 随着柔性的有机发光器件,如有机发光二极管(OLED)、有机太阳能电池(OSCs)、铜铟镓硒太阳能电池(CIGS)等不断发展,对于有机材料的封装研究也越来越深入。而柔性基体使用的聚合材料阻隔性能还达不到要求,采用薄膜封装(...
- 方明
- 关键词：原子层沉积氧化硅氩等离子体
- 文献传递
