胡欣
- 作品数：8 被引量：11H指数：2
- 供职机构：浙江省化工研究院有限公司更多>>
- 相关领域：化学工程一般工业技术经济管理更多>>
- 浅述高纯三氟甲烷的生产及应用被引量：2
- 2015年
- 概述了高纯度三氟甲烷的合成和提纯方法,介绍了高纯三氟甲烷的主要用途,讨论了高纯三氟甲烷国产化的价值和可行性。
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- 关键词：高纯三氟甲烷提纯
- 高纯六氟化钨的制备技术研究进展被引量：1
- 2020年
- 随着电子工业迅速发展,六氟化钨被广泛应用于半导体行业,其需求量日益扩大,对其纯度要求也越来越苛刻。综述了现有六氟化钨最常用的制备及纯化方法,分析了这四种纯化方法各自优缺点。在实际生产中,应根据六氟化钨中所含杂质的种类,联用多种纯化方法来获得高纯六氟化钨产品。此外,应尽早实现高纯六氟化钨工业化生产,填补国内相关领域空白。
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- 关键词：六氟化钨纯化电子气体
- 八氟环丁烷的纯化技术研究进展被引量：1
- 2019年
- 随着电子工业的迅速发展,八氟环丁烷作为常用的半导体工艺蚀刻或清洗气体,其需求量日益增加,对其纯度要求也越来越苛刻。总结了现有应用最为广泛的四种八氟环丁烷纯化技术:精馏技术、吸附技术、化学转化法、膜分离技术,分析四种纯化技术各自优缺点。在实际生产中,根据八氟环丁烷中所含杂质的种类,选择合适纯化技术联用来获得高纯八氟环丁烷。此外,应不断开发新型、高效电子气体纯化技术,促进我国电子气体行业的发展。
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- 关键词：纯化技术电子气体
- 三氟碘甲烷刻蚀性能和应用研究进展被引量：2
- 2018年
- 三氟碘甲烷由于其优良的蚀刻性能和安全环保的特性,是未来用于制造超大规模集成电路器件的精密刻蚀工艺极具潜力的氟碳类刻蚀气体的替代品。介绍了三氟碘甲烷的理化性质,综述了含氟化合物的蚀刻机制及三氟碘甲烷在蚀刻方面的优良性能和应用研究进展。
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- 关键词：三氟碘甲烷刻蚀含氟化合物
- 高纯四氟化硅的制备技术研究进展
- 2019年
- 四氟化硅是一种有机硅化合物合成材料,被广泛应用于半导体行业,其需求量日益扩大,对其纯度要求也越来越苛刻。本文介绍了四氟化硅常用制备方法及其优缺点,列举了四氟化硅的纯化方法。在实际生产过程中,企业需根据自身实际生产情况选择合理的生产路线,结合制备工艺中杂质种类,选择合适纯化方法,获得高纯四氟化硅产品。
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- 关键词：四氟化硅纯化电子气体
- CH_4/N_2吸附分离技术中吸附材料的研究进展被引量：2
- 2019年
- 近年来我国开采煤层气的步伐加快,而利用率低,其原因在于甲烷含量低和燃料效率低等。因此有效地富集提纯煤层气,开发高效的CH_4/N_2分离技术就显得尤为关键。相比较传统的分离技术,高效、经济的PSA吸附分离技术在CH_4/N_2中展示出广阔的前景。通过分析国内外传统吸附材料和新型吸附材料的研究现状,对其各自的吸附机理、吸附工艺进行探讨,为以后高效CH_4/N_2分离材料的开发和研究提供了新的参考依据,同时展望吸附分离技术在CH_4/N_2分离领域的发展与应用前景。
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- 关键词：煤层气甲烷氮气吸附剂
- 浅述高纯三氟甲烷的生产及应用
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- 二氟甲烷的制备及纯化技术研究进展被引量：3
- 2020年
- 二氟甲烷是一种理想的含氯氟烃替代物,其具有优异的热力学及环境性能,被广泛应用于制冷行业。本文重点综述了二氯甲烷氟化法生产二氟甲烷的工艺及所用氟化催化剂,介绍了二氟甲烷的纯化方法。在实际生产中,优先选择二氯甲烷气相氟化法,该方法的关键是研制出高性能的催化剂,然后根据二氟甲烷粗品的杂质种类,选择合适的纯化方法,得到高纯度二氟甲烷产品。
- 缪光武何双材白占旗张金柯曾群胡欣刘武灿
- 关键词：二氟甲烷催化剂纯化
