余学金
- 作品数:3 被引量:10H指数:2
- 供职机构:四川理工学院材料与化学工程学院更多>>
- 发文基金:四川省教育厅资助科研项目四川省自然科学基金更多>>
- 相关领域:金属学及工艺更多>>
- 负偏压对多弧离子镀TiN涂层大颗粒形貌及像素分布的影响被引量:4
- 2015年
- 目的分析不同负偏压下Ti N涂层表面的大颗粒数量、尺寸和面积以及像素分布,为多弧离子镀技术的工业化应用提供基础数据。方法采用多弧离子镀膜技术,以脉冲负偏压为变量,在硬质合金表面沉积Ti N涂层。用扫描电子显微镜对涂层表面形貌进行表征,并利用Image J软件对表面大颗粒的数量和尺寸进行分析,对像素分布进行统计。结果随着负偏压的增加,涂层表面大颗粒的数量先增多,后减少。负偏压为100 V时,大颗粒数量最多,为1364;负偏压为300 V时,大颗粒数量最少,为750。此外随着负偏压的增加,大颗粒所占涂层面积比逐渐减小。未加负偏压时,涂层表面大颗粒所占面积比最大,为6.9%,且此时涂层的力学性能最差;采用400 V负偏压时,涂层表面大颗粒所占面积比最小,为3.3%,且此时涂层的力学性能最好。负偏压为300 V时,亮、暗像素点的个数最多,为8302;负偏压为400 V时,亮、暗像素点的个数最少,为4067。结论当占空比为30%,沉积时间为1 h,负偏压为400 V时,获得的涂层力学性能最好,颗粒数量少且尺寸小。
- 陈昌浩金永中刘东亮余学金
- 关键词:多弧离子镀TIIMAGE大颗粒
- 多弧离子镀TiN涂层的N_2/Ar流量参数研究被引量:1
- 2016年
- 利用多弧离子镀在硬质合金基体上制备TiN涂层,研究了N_2/Ar流量比对TiN涂层表面大颗粒分布与力学性能的影响。通过扫描电镜观察TiN涂层的表面形貌,并利用Image J图像处理软件对大颗粒的数量和尺寸进行了分析,通过自动划痕仪和纳米压痕仪对涂层的力学性能进行表征。结果表明:随着N2流量的增加,涂层表面沉积颗粒的最大直径和平均直径逐渐减小,涂层的附着力整体呈现增加趋势,显微硬度则先增大后减小。
- 陈昌浩金永中陈建蔡瑜余学金龙国俊
- 关键词:多弧离子镀TIN涂层大颗粒力学性能
- 弧电流对多弧离子镀TiN涂层形貌及力学性能的影响被引量:7
- 2016年
- 采用多弧离子镀膜技术在硬质合金基体表面沉积TiN涂层,研究了60-140A弧电流对TiN涂层的表面形貌和力学性能的影响。使用扫描电子显微镜、扫描探针显微镜对涂层的形貌进行观察,使用自动划痕仪、纳米压痕仪对涂层的力学性能进行检测。研究结果表明:随着弧电流的增加,涂层的沉积速率呈现非线性增长,涂层组织中的晶粒逐渐长大并聚集。弧电流在120-140A时,涂层的组织由球形晶粒向平板状晶粒转变。随着弧电流的增加,附着力呈先增大后减小趋势,附着力在80A时最大,为123.3N;显微硬度呈增大趋势,但在60-100A时硬度增加较小,超过100A,硬度显著提高,140A时最大,为3051HV。
- 陈昌浩金永中陈建龙国俊余学金蔡瑜
- 关键词:多弧离子镀TIN涂层表面形貌力学性能