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刘新

作品数：1 被引量：7H指数：1
供职机构：重庆城市管理职业学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇四甲基
  • 1篇四甲基氢氧化...
  • 1篇氢氧化
  • 1篇氢氧化铵
  • 1篇清洗法
  • 1篇化学清洗
  • 1篇化学清洗工艺
  • 1篇甲基
  • 1篇RCA
  • 1篇TMAH
  • 1篇EDTA

机构

  • 1篇重庆城市管理...
  • 1篇重庆光电技术...

作者

  • 1篇叶嗣荣
  • 1篇刘小芹
  • 1篇黄绍春
  • 1篇刘新

传媒

  • 1篇半导体光电

年份

  • 1篇2014
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
通过添加表面活性剂和螯合剂改进硅片化学清洗工艺的研究被引量：7
2014年
通过在传统RCA清洗法所用的SC-1液中,添加表面活性剂四甲基氢氧化铵(TMAH)和/或螯合剂乙二胺四乙酸(EDTA),实验比较了不同清洗方法对颗粒粘污、金属粘污的去除效率;并测试了其对硅片表面粗糙度的影响。用MOS电容结构的击穿电场强度Weibull分布,评价了不同清洗方法所得氧化层的质量。结果表明,上述改进能够显著提高对颗粒粘污和金属粘污的去除效果,同时能省去RCA的SC-2清洗步骤,具有节省工时、化学试剂消耗量小的优势。
黄绍春刘新叶嗣荣刘小芹
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共1页<1>
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