魏巧灵
- 作品数：6 被引量：33H指数：4
- 供职机构：昆明贵金属研究所更多>>
- 发文基金：云南省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学更多>>
- 反应气体流量对CVD钽性能影响研究被引量：4
- 2013年
- 介绍了化学气相沉积（CVD）技术制备难熔金属钽涂层的原理及方法。利用TaC15-H2·HCl反应体系，以冷壁式化学气相沉积法在钼基体表面沉积了钽涂层。利用扫描电子显微镜（SEM）、X射线物相分析仪（XRD）、显微硬度计等分析手段，研究了反应气体（氢气、氯气）的流量变化对钽涂层的沉积速率、结构、表面形貌、硬度及密度等的影响；应用Harris公式，计算了钽涂层的织构系数，获得了钽涂层的择优取向。研究结果表明：随着氢气流量的增加，涂层沉积速率加快，随着氯气流量的增加，涂层的沉积速率则是先增加后减小；涂层由体心立方结构的钽（α—Ta）构成，表面形貌呈类金字塔形结构，涂层（200）晶面方向为最快生长方向；反应气体流量变化对涂层硬度及密度的影响均不明显；涂层维氏硬度在HV130．94～HV152．43之间，涂层致密性好，相对密度都在99．65％以上。
- 蔡宏中易健宏魏巧灵陈力魏燕胡昌义
- 关键词：反应气体化学气相沉积
- CVD温度对钽沉积层性能的影响被引量：7
- 2012年
- 介绍了化学气相沉积(CVD)制备难熔金属钽涂层的原理及方法。采用冷壁式化学气相沉积法,在钼基体上沉积出难熔金属钽层。分析研究了CVD温度对沉积层的沉积速率、组织、结构和硬度等的影响。结果表明:在1000～1200℃温度范围,沉积速率随温度升高而增大;当温度超过1200℃时,沉积速率随温度的升高反而略有减小;沉积层组织呈柱状晶并随温度的升高逐渐增大;沉积层的硬度及密度随温度的升高而逐渐降低。化学气相沉积钽的最佳温度在1100℃左右。
- 蔡宏中魏巧灵魏燕陈力郑旭胡昌义
- 关键词：化学气相沉积钽
- CVD温度对钽涂层组成、显微组织及形貌的影响被引量：9
- 2012年
- 利用TaCl2-H2-HCl反应体系,采用冷壁式化学气相沉积法(CVD)在钼基体表面沉积钽涂层。通过X射线衍射仪、金像显微镜及扫描电镜等手段,对不同沉积温度下钽涂层的组成、组织及形貌进行了研究。结果表明:在1000～1300℃范围内,钽沉积层的相组成无变化,而对择优生长有一定影响;钽沉积层晶粒尺寸随沉积温度的升高而增大;钽沉积层表面颗粒呈金字塔形多面体且随沉积温度的升高而增大。
- 蔡宏中魏巧灵陈力王云胡昌义
- 关键词：化学气相沉积相组成显微组织形貌
- 化学气相沉积技术及在难熔金属材料中的应用被引量：13
- 2010年
- 简述了化学气相沉积技术(Chemical Vapor Deposition,简称CVD)的发展历程及其应用领域;重点阐述CVD技术在难熔金属(W、Re、Ta、Mo、Nb)相关领域的应用概况并展望了其研究前景,特别指出CVD技术在制备难熔金属合金研究上存在的挑战和机遇。
- 黎宪宽陈力蔡宏中魏巧灵胡昌义
- 关键词：化学气相沉积
- 温度对CVD钽涂层组成、显微组织及形貌的影响
- 利用TaCl2-H2-HCl反应体系，采用冷壁式化学气相沉积法(CVD)在钼基体表面沉积钽涂层。研究了沉积温度对钽涂层的的组成、显微组织及表面形貌的影响，结果表明：在1000～1300℃范围内，随沉积温度的升高，钽沉积层...
- 蔡宏中魏巧灵陈力王云胡昌义
- 关键词：化学气相沉积法难熔金属晶粒尺寸
- 钽的CVD动力学规律及显微组织被引量：4
- 2011年
- 简述氢气还原氯化钽化学气相沉积钽(CVD)的主要原理,研究氯化、氯气流量、氢气流量和沉积温度4个参数对沉积速率及沉积层显微组织的影响。结果表明:氯化温度对沉积速率的影响最小,沉积温度的影响最大;显微组织由小晶粒区和柱状晶区组成,沉积参数改变,柱状晶晶粒大小发生变化。
- 魏巧灵蔡宏中陈力魏燕毛传军胡昌义
- 关键词：CVD沉积速率显微组织
