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方媛媛
作品数:
10
被引量:8
H指数:1
供职机构:
中国科学院上海光学精密机械研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
机械工程
金属学及工艺
电子电信
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合作作者
徐学科
中国科学院上海光学精密机械研究...
顿爱欢
中国科学院上海光学精密机械研究...
邵建达
中国科学院上海光学精密机械研究...
曹俊
中国科学院上海光学精密机械研究...
吴福林
中国科学院上海光学精密机械研究...
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大型环抛机蜡盘平面度的测量
被引量:8
2016年
针对大口径平面光学元件全频谱面形技术指标的高效率、高精度收敛,研究了环形抛光技术。考虑环抛机沥青蜡盘的平面度直接影响工件面形的收敛效率,本文利用准直激光束作为参考,设计研制了测量精度高,重复性精度达到±1μm的大型环抛机抛光蜡盘平面度测量专用装置。分析了环抛过程中蜡盘表面平面度和工件面型PV值之间的变化规律和相关性,根据测量数据得出了蜡盘平面度数据和工件面形的对应关系。实验显示:当平面度和面形曲线相差较大时,工件面形可快速收敛至1λ左右,并由粗抛向精抛工序快速过渡。提出的大型环抛机抛光蜡盘平面度监测装置实现了对湿滑胶体平面的高精度、快速测量,为环抛的确定性抛光工艺提供了重要的技术支持。
王哲
徐学科
邵建达
顿爱欢
杨明红
范永涛
方媛媛
高文兰
刘方
关键词:
平面度测量
掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法
一种掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法,该装置采用双方位角斜入射和垂直入射照明,本发明通过反射物镜高效收集不同散射角下的表面缺陷散射信号,提高缺陷探测灵敏度。本发明通过分别采集斜入射照明下的缺陷散射图像和垂直照明下的...
倪开灶
邵建达
刘世杰
徐学科
顿爱欢
曹俊
方媛媛
氧化物光学元件化学机械抛光后残留物清洗剂及其制备方法
本发明涉及一种氧化物光学元件化学机械抛光后残留物清洗剂,其配方是按照摩尔数配比:60%~70%无水乙醇、10~15%聚乙二醇,3%~5%乙二胺四乙酸,4%~10%六亚甲基四胺,3%~5%有机碱AMP95,2%~10%聚丙...
方媛媛
黄海卫
王哲
顿爱欢
徐学科
贺洪波
邵建达
文献传递
环抛机抛光盘现场浇注装置
本发明涉及一种用于环抛机抛光盘现场浇注的装置,专门应用于大口径环抛机沥青抛光盘生产车间现场的浇筑装置。它包括:1、料筒2、喷料枪3、移动平台4、料筒盖5、料筒筒体6、散热孔7、控制面板8、排风扇9、喷料枪10、加热喷料管...
方媛媛
吴福林
王哲
顿爱欢
徐学科
贺洪波
邵建达
文献传递
大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法
一种大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法,本发明不仅可以满足大口径蓝宝石窗口元件的双面反射面形优于1/3λ,表面粗糙度优于0.3nm,平行度优于0.009,表面光洁度优于Ⅲ级的加工要求,而且工艺简单,可直接在单轴抛光...
方媛媛
吴福林
王哲
顿爱欢
徐学科
贺洪波
文献传递
大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法
一种大口径蓝宝石窗口元件的双面高精度抛光方法,本发明不仅可以满足大口径蓝宝石窗口元件的双面反射面形优于1/3λ,表面粗糙度优于0.3nm,平行度优于0.009,表面光洁度优于Ⅲ级的加工要求,而且工艺简单,可直接在单轴抛光...
方媛媛
吴福林
王哲
顿爱欢
徐学科
贺洪波
文献传递
光学镜片抛光液循环过滤装置
一种光学加工中的抛光液循环过滤装置,包括:液箱部分、出液部分和过滤部分。液箱部分包括:抛光液箱体、自吸泵、搅拌泵和液位计。出液部分包括:管路、三通阀、安全阀、出液单向阀、前道粗过滤器、前道精过滤器、调压阀、加热器、净水单...
侯瑞
顿爱欢
嵇文超
曹俊
方媛媛
杨扬
刘斌
徐学科
吴福林
光学镜片抛光液循环过滤装置
一种光学加工中的抛光液循环过滤装置,包括:液箱部分、出液部分和过滤部分。液箱部分包括:抛光液箱体、自吸泵、搅拌泵和液位计。出液部分包括:管路、三通阀、安全阀、出液单向阀、前道粗过滤器、前道精过滤器、调压阀、加热器、净水单...
侯瑞
顿爱欢
嵇文超
曹俊
方媛媛
杨扬
刘斌
徐学科
吴福林
大型环抛机抛光胶的制备装置和制备方法
一种大型环抛机抛光胶的制备装置和制备方法,装置包括搅拌釜、出料泵、液压升降器、搅拌电机、横梁、加热油箱及其连接管路和电器控制箱,本发明能高可控性,高稳定性地制备大口径高精度全频谱低缺陷光学元件超精密环抛专用抛光胶,避免了...
方媛媛
邵建达
顿爱欢
吴福林
杨明红
徐学科
文献传递
掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法
一种掩模基板表面微纳缺陷检测装置和检测方法,该装置采用双方位角斜入射和垂直入射照明,本发明通过反射物镜高效收集不同散射角下的表面缺陷散射信号,提高缺陷探测灵敏度。本发明通过分别采集斜入射照明下的缺陷散射图像和垂直照明下的...
倪开灶
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