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杜国平

作品数:3 被引量:4H指数:1
供职机构:南京电子器件研究所更多>>
发文基金:江苏省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 2篇开关
  • 1篇射频微机电系...
  • 1篇通孔
  • 1篇装配过程
  • 1篇微机电系统
  • 1篇可靠性
  • 1篇硅膜
  • 1篇RF_MEM...
  • 1篇

机构

  • 3篇南京电子器件...

作者

  • 3篇杜国平
  • 2篇郁元卫
  • 2篇朱健
  • 1篇侯智昊
  • 1篇刘梅
  • 1篇姜理利

传媒

  • 2篇固体电子学研...
  • 1篇电子工业专用...

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2017
  • 1篇2010
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
横向接触式RF MEMS开关被引量:1
2010年
提出了一种横向接触式RF MEMS开关,采用金属叉指结构进行驱动。通过结构建模和性能仿真,对叉指结构进行了优化,提高了机械性能,减小开关的尺寸。通过加大横向接触面积,降低接触电阻,减小开关导通态的插损,提高了开关的射频性能。利用低温表面牺牲层工艺在砷化镓衬底上进行了开关的流片,通过工艺的改进最终得到满意的流片结果。测试结果表明:在DC-20GHz频率范围内,开关的插入损耗小于0.3dB,隔离度大于20dB。
杜国平朱健郁元卫侯智昊
关键词:射频微机电系统开关
硅膜RFMEMS开关被引量:2
2017年
利用静电驱动原理设计了一种新颖的射频硅膜RF MEMS开关,其开关的优点在于:巧妙的运用CPW传输线的地线作为下电极,加大了开关驱动面积,减小了驱动电压;利用硅膜作为结构层,利用硅本身优良的机械特性可提高开关的可靠性;具有静电接触式开关低频隔离度的优点。通过流片得到了满意的开关样品,测试结果表明:在DC-6 GHz频率范围内,开关的插入损耗小于0.5 dB,隔离度大于30 dB。
杜国平朱健郁元卫姜理利
关键词:开关硅膜
MEMS滤波器装配过程中硅通孔接地失效分析被引量:1
2020年
研究了交指型MEMS滤波器硅通孔在装配使用中的接地失效。针对滤波器硅通孔接地失效的两种主要失效模式,分析了失效原因,建立了导电胶填充硅通孔装配过程的有限元分析模型并进行了仿真,发现导电胶填充高度接近硅通孔上边沿时,通孔受到的热应力最大,热应变最严重。通过装配后产品的温度应力试验,验证了仿真结果。给出了加强硅通孔金属化前清洗工艺的质量控制要求,提出了MEMS滤波器装配过程中导电胶填孔高度不得超过1/2的装配建议。
吴静刘梅禹淼胡玉华杜国平
关键词:可靠性
共1页<1>
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