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石磊

作品数：1 被引量：7H指数：1
供职机构：上海交通大学微纳米科学技术研究院薄膜与微细技术教育部重点实验室更多>>
发文基金：国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇结构性能
  • 1篇光刻

机构

  • 1篇上海交通大学

作者

  • 1篇刘景全
  • 1篇石磊
  • 1篇朱军
  • 1篇陈迪
  • 1篇张金娅

传媒

  • 1篇高分子材料科...

年份

  • 1篇2004
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
环氧基紫外负性光刻胶的特性、应用工艺与展望被引量：7
2004年
环氧基紫外负性光刻胶(SU-8)是一种近几年发展起来的新型的光刻胶材料。它是一种双酚A酚醛缩水甘油醚环氧树脂溶解于GBL(γ-Butyrolactone)而形成的高分子有机聚合物胶体。SU-8胶作为一种光刻材料,由于其独特的光学性能,力学性能和化学性能等,在MEMS(Micro-electro-mechanic-sys-tem)研究领域正受到了越来越多的关注,目前已被广泛的应用于MEMS器件的制备中。本文介绍了它的结构性能以及发展前景并报道了我们在其加工工艺上的研究进展。
朱军刘景全张金娅陈迪石磊
关键词：光刻结构性能
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