2024年11月29日
星期五
|
欢迎来到维普•公共文化服务平台
登录
|
进入后台
[
APP下载]
[
APP下载]
扫一扫,既下载
全民阅读
职业技能
专家智库
参考咨询
您的位置:
专家智库
>
>
曹建明
作品数:
1
被引量:0
H指数:0
供职机构:
深圳大学电子科学与技术学院
更多>>
发文基金:
深圳市基础研究计划项目
国家自然科学基金
更多>>
相关领域:
电子电信
更多>>
合作作者
刘诗尧
深圳大学电子科学与技术学院
黄思文
深圳大学电子科学与技术学院
贺威
深圳大学电子科学与技术学院
作品列表
供职机构
相关作者
所获基金
研究领域
题名
作者
机构
关键词
文摘
任意字段
作者
题名
机构
关键词
文摘
任意字段
在结果中检索
文献类型
1篇
中文期刊文章
领域
1篇
电子电信
主题
1篇
氧化物半导体
1篇
总剂量
1篇
总剂量辐射
1篇
总剂量效应
1篇
金属氧化物半...
1篇
金属氧化物半...
1篇
晶体管
1篇
绝缘体上硅
1篇
半导体
1篇
半导体场效应...
1篇
FET
1篇
场效应
1篇
场效应晶体管
机构
1篇
深圳大学
作者
1篇
贺威
1篇
黄思文
1篇
曹建明
1篇
刘诗尧
传媒
1篇
固体电子学研...
年份
1篇
2013
共
1
条 记 录,以下是 1-1
全选
清除
导出
排序方式:
相关度排序
被引量排序
时效排序
三栅FET的总剂量辐射效应研究
2013年
通过对赝MOS进行不同剂量的辐射,得到不同辐射条件下赝MOS器件的I-V特性曲线,并通过中带电压法进行分析,得出在不同辐射下SOI材料的埋氧层中产生的陷阱电荷密度和界面态电荷密度参数。采用这些参数并结合Altal三维器件模拟软件模拟了硅鳍(FIN)宽度不同的三栅FET器件的总剂量辐射效应,分析陷阱电荷在埋氧层的积累和鳍宽对器件电学特性的影响。
刘诗尧
贺威
曹建明
黄思文
关键词:
绝缘体上硅
总剂量效应
全选
清除
导出
共1页
<
1
>
聚类工具
0
执行
隐藏
清空
用户登录
用户反馈
标题:
*标题长度不超过50
邮箱:
*
反馈意见:
反馈意见字数长度不超过255
验证码:
看不清楚?点击换一张