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湿法腐蚀硅制作PDMS微流控芯片被引量：6: 2005年; 提出一种制作聚二甲基硅氧烷(PDMS)微流控芯片的方法。用15%四甲基氢氧化铵溶液各向异性腐蚀硅(100)制作模具,然后经过浇模,中真空键合得到PDMS微流控芯片。整个过程耗时约10h。用SEM和激光共焦显微成像系统观察整个制作过程。分析了硅片模具及PDMS微流控芯片图案的一致性及粗糙度,结果表明硅片模具图案的相对标准偏差低于3%,表面粗糙度Ra是0.0.51μm,PDMS微流控芯片相应的分别是1%和0.183μm。用PDMS微流控芯片进行电泳分离试验,分离场强200V/cm,在4.7cm长的分离通道中,30s内成功分离了四苯磺酸基卟啉(TPPS)和羧基钴酞菁(TCPcCo(Ⅱ))的混合样品。; 张峰张宏毅周勇亮杨渭陈彬彬; 关键词：微流控芯片湿法腐蚀聚二甲基硅氧烷

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杨渭