梁淼
- 作品数：4 被引量：3H指数：2
- 供职机构：安徽工业大学更多>>
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- 相关领域：金属学及工艺电子电信更多>>
- 铜互联阻挡层新材料锇的化学机械抛光研究
- 本文采用自制抛光液对锇进行化学机械抛光,研究缓蚀剂、有机酸、H2O2浓度、表面活性剂等参数对抛光速率和表面质量的影响,并利用电化学分析、X射线光电子能谱仪和扫描探针显微镜分析不同参数在金属锇化学抛光过程中的作用机理。首先...
- 梁淼
- 关键词：化学机械抛光锇表面粗糙度去除速率抛光液
- 文献传递
- 乳酸体系抛光液中锇的化学机械抛光被引量：2
- 2014年
- 本文研究了乳酸(HL)体系抛光液中金属锇的化学机械抛光(CMP)行为,采用电化学分析方法和X射线光电子能谱仪(XPS)分析氧化剂和腐蚀抑制剂的作用机理,利用原子力显微镜(AFM)观察抛光前后锇的表面形貌.结果表明,当抛光液仅含有H2O2时,金属锇表面腐蚀不明显;在一定浓度范围内H2O2浓度的增加可以提高金属锇表面的腐蚀速度,但是不利于金属锇表面钝化膜的形成.当抛光条件为:压力为6.895 kPa,转速为50 r/min,抛光液流量为50 mL/min,pH值为5.0;抛光液组成为:SiO2质量分数为1%,HL质量分数为1%,H2O2质量分数为3%时,得到最大去除速率为23.34 nm/min,表面粗糙度Ra为6.3 nm,而将缓蚀剂BTA加入到抛光液后,在同样的抛光条件下得到的锇表面粗糙度更低,表面粗糙度Ra达到2.1 nm.
- 梁淼储向峰董永平张王兵孙文起
- 关键词：化学机械抛光锇乳酸极化曲线
- 锇在甲酸体系抛光液中化学机械抛光研究被引量：2
- 2013年
- 基于金属锇有可能成为大规模集成电路铜互连扩散阻挡层新材料,利用自制的甲酸(HCOOH)体系抛光液对金属锇进行了化学机械抛光研究,利用原子力显微镜(AFM)观察抛光后锇的表面形貌。采用电化学分析方法研究双氧水(H2O2)、HCOOH和苯丙三氮唑(BTA)对样品腐蚀效果的影响。结果表明:当抛光液中仅含H2O2时,金属锇表面腐蚀不明显;而在H2O2-HCOOH体系中,H2O2浓度的增加可使金属锇表面的腐蚀速度明显加快,但不利于金属锇表面钝化膜的形成;缓蚀剂BTA的加入促进了金属锇表面钝化膜的生成,降低了抛光速率,但同时提高了金属锇的表面质量,表面粗糙度Ra由8.0 nm降低到4.2 nm。
- 梁淼储向峰董永平张王兵孙文起陈均
- 关键词：极化曲线
- 锇化学机械抛光过程中表面活性剂的作用研究
- 2016年
- 利用化学机械抛光方法对锇基片进行表面平坦化处理,通过自制抛光液研究不同表面活性剂对锇化学机械抛光效果的影响。采用电化学分析方法和X射线光电子能谱(XPS)仪分析表面活性剂对锇抛光的影响,利用原子力显微镜(AFM)观察抛光后锇的表面形貌。结果表明:加入四甲基氢氧化铵(TMAOH)后,金属锇的去除速率从5.8 nm/min降低到2.9 nm/min,同时锇表面粗糙度从2.1 nm上升到4.8 nm;聚乙二醇400(PEG-400)、六偏磷酸钠(SHMP)、十二烷基磺酸钠(SDS)3种表面活性剂虽然可以提高金属锇的抛光速率,但是在改善锇表面质量方面并没有帮助;十二烷基硫酸钠(SLS)和十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)不仅可以提高金属锇的抛光速率,而且可以得到更好的表面平坦化效果,其中十六烷基三甲基溴化铵效果更加明显,可以将锇表面粗糙度(Ra)降低到0.57 nm,同时将抛光速率提高到14.6 nm/min。
- 白林山梁淼储向峰董永平张王兵
- 关键词：化学机械抛光锇表面活性剂电化学
