- 同质掩模法制作凸面闪耀光栅的研究
- 凸面光栅成像光谱仪是一种重要的观测仪器，具有高分辨率、高时效性、测量范围广等优点，目前已广泛应用于资源勘探、农业生产、科学研究、医疗卫生、军事侦查等领域，凸面闪耀光栅是该成像光谱仪的关键元件，通常凸面闪耀光栅的工作波段范...
- 郭培亮
- 关键词：全息光刻离子束刻蚀衍射效率
- 用于强激光系统的光栅偏振器被引量：5
- 2016年
- 针对强激光系统中常用的1 053nm激光器进行了偏振光栅结构的优化设计。利用严格耦合波理论分析了光栅偏振器的衍射特性及消光比,分析显示偏振光栅周期为600nm,占宽比为0.535~0.55,槽形深度为1 395nm^1 420nm时,可保证其在1 053nm波长下,透射率高于95%,消光比大于1 500。基于分析结果,利用全息光刻技术制作了高质量光刻胶光栅掩模,并采用倾斜转动的离子束刻蚀结合反应离子束刻蚀的方法对该光刻胶光栅掩模进行图形转移,制作了底部占宽比为0.54,槽形深度为1 400nm的光栅偏振器。实验测量显示其透射率为92.9%,消光比达到160。与其他制作光栅偏振器方法相比,采用单光刻胶光栅掩模结合倾斜转动的离子束刻蚀工艺,不但简化了制作工艺,而且具有激光损伤阈值高、成本低的优点。由于该技术可制作大面积光栅,特别利于在强激光系统中应用。
- 刘全吴建宏郭培亮
- 关键词：高功率激光系统严格耦合波理论全息光刻离子束刻蚀
