陈传东
- 作品数：10 被引量：11H指数：2
- 供职机构：包头稀土研究院更多>>
- 发文基金：内蒙古自治区自然科学基金内蒙古自治区科技计划项目国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：化学工程理学电子电信机械工程更多>>
- 铈基材料制备及其在抛光领域中的应用
- 高品质氧化铈纳米颗粒因其具有独特的4f电子层结构、相对优良的性能和低廉的价格而在精细研磨抛光、催化、紫外吸收等领域得以广泛应用。化学机械抛光(CMP)是一种全局平面化技术,除了盖板、光学等领域的玻璃抛光外,氧化铈颗粒在逻...
- 陈传东范娜张忠义胡群赵思远
- 关键词：氧化铈抛光
- 文献传递
- 铈基材料制备及其在抛光领域中的应用
- 高品质氧化铈纳米颗粒因其具有独特的4f电子层结构、相对优良的性能和低廉的价格而在精细研磨抛光、催化、紫外吸收等领域得以广泛应用。
- 陈传东范娜张忠义胡群赵思远
- 关键词：氧化铈抛光
- 氧化铈-氧化石墨烯复合材料及其制备方法
- 本发明公开了一种氧化铈‑氧化石墨烯复合材料及其制备方法。该制备方法包括如下步骤：1)提供氧化石墨烯悬浮液；2)在搅拌下，向所述氧化石墨烯悬浮液中依次加入水溶性铈盐、分散剂，得到第一混合物；其中，氧化石墨烯与水溶性铈盐的质...
- 崔燕英陈传东范娜岳帅军胡群李晓佩赵思远刘杨
- 用于形成聚氨酯的组合物、聚氨酯抛光垫及制备方法和用途
- 本发明公开了一种用于形成聚氨酯的组合物、聚氨酯抛光垫及制备方法和用途。该组合物通过第一混合物和异氰酸酯类组分混合而得；其中，所述第一混合物包括聚醚多元醇、有机硅、水、有机锡、化合物A和多元胺；化合物A具有如(I)所示的结...
- 李晓佩陈传东张忠义岳帅军刘杨胡群范娜崔燕英赵思远
- 基于氟硅混酸制备稀土抛光粉及其抛光性能研究
- 2024年
- 以碳酸镧铈为前驱体,HF酸、氟硅混酸为氟源氟化、高温焙烧、球磨的方法制备含氟铈基稀土抛光粉。采用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜、粒度分析仪、激光共聚焦显微镜等检测手段对不同氟源铈基稀土抛光粉进行表征。结果表明,HF酸和氟硅混酸氟化后的铈基稀土抛光粉物相组成相同,均出现CeO_(2),LaOF和LaF_(3)衍射峰;氟化后两种抛光粉的形貌均发生明显变化,HF酸氟化后的抛光粉颗粒成型较好,一次颗粒平均粒径约113nm,氟硅混酸氟化后,出现球形颗粒,一次颗粒平均粒径约90nm,比HF酸氟化的铈基稀土抛光粉粒径小,球形度较好。HF酸和氟硅混酸氟化的铈基稀土抛光粉4次抛光的磨削率基本保持不变,抛光后的K9玻璃250μm×250μm表面粗糙度分别为84.54和81.85nm,两种抛光粉抛光后的表面粗糙度相差较小。
- 范娜陈传东于健飞胡群岳帅军赵思远刘杨
- 二氧化铈及其制备方法
- 本发明公开了一种二氧化铈及其制备方法。该制备方法包括如下步骤：1)将铈盐溶液与柠檬酸、氢氧化钠和尿素混合，得到混合液；将混合液在110～200℃下反应，得到反应液；2)将反应液固液分离，并将固体洗涤、干燥，得到前驱物；3...
- 刘杨陈传东岳帅军范娜胡群赵思远李晓佩崔燕英
- 二氧化铈颗粒及其制备方法
- 本发明公开了一种二氧化铈颗粒及其制备方法，该制备方法包括如下步骤：1)将摩尔比为1:100～5000的水溶性铈盐和多元醇混合，得到混合液；2)将混合液在微波消解仪中进行微波处理，得到前驱物反应液；其中，微波处理温度为12...
- 于健飞陈传东岳帅军胡群范娜赵思远刘杨
- 二氧化铈颗粒及其制备方法
- 本发明公开了一种二氧化铈颗粒及其制备方法，该制备方法包括如下步骤：1)将摩尔比为1:100～5000的水溶性铈盐和多元醇混合，得到混合液；2)将混合液在微波消解仪中进行微波处理，得到前驱物反应液；其中，微波处理温度为12...
- 于健飞陈传东岳帅军胡群范娜赵思远刘杨
- CeO_2-SiO_2复合氧化物的制备及性能表征被引量：5
- 2013年
- 化学沉淀法制备了SiO2和CeO2以及复合氧化物CeO2-SiO2等纳米粉体。对粉体的形貌及物相结构、粒径大小通过TEM及XRD进行了检测分析。SiO2粉体为无定形结构,粒径约500 nm,立方萤石型结构的CeO2及复合氧化物CeO2-SiO2的平均粒径小于10 nm,说明复合氧化物的合成过程抑制了粒径的长大。制备了SiO2/CeO2质量比分别为5%、10%、15%、20%的复合氧化物,煅烧温度为400℃～1000℃,结果显示随着SiO2比例的增加,CeO2的特征峰在逐渐减弱,半高宽变宽,粒径变小;随着煅烧温度的升高,特征峰强度增加,半高宽变窄,颗粒的晶型发育越来越完善,但样品的粒径变大。
- 慕利娟张忠义张立业陈传东王婷婷赵增祺
- 关键词：化学沉淀法
- 硬脆基底材料超精密抛光技术研究进展被引量：6
- 2022年
- 随着高新技术的快速发展,对应用于精密制造业的硬脆材料表面质量提出了越来越高的要求,传统的加工方法难以达到理想的表面精度。超精密抛光作为一种降低表面粗糙度、提高材料去除率,获得表面平坦化的加工技术被广泛用于材料表面末端精加工,以获得高精度的材料表面。本文结合近年来硬脆材料超精密抛光技术研究现状,分别介绍了磁流变抛光、离子束抛光和化学机械抛光等超精密抛光技术的原理及特点,总结了其在硬脆材料方面的应用研究进展,展望了硬脆材料超精密抛光技术未来的研究方向。
- 范娜陈传东张忠义
- 关键词：磁流变抛光化学机械抛光
