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高华

作品数：1 被引量：5H指数：1
供职机构：北京交通大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
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合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇退火
  • 1篇热退火
  • 1篇晶格
  • 1篇溅射
  • 1篇硅纳米晶
  • 1篇发光
  • 1篇发光特性
  • 1篇超晶格
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇北京交通大学

作者

  • 1篇衣立新
  • 1篇王申伟
  • 1篇胡峰
  • 1篇何桢
  • 1篇高华

传媒

  • 1篇发光学报

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
溅射气氛和退火方式对硅纳米晶的形成及发光特性的影响被引量：5
2009年
利用磁控溅射技术溅射硅靶,通过调节溅射气氛在硅衬底上生长了S iO/S iO2超晶格,热退火处理后超晶格中的S iO发生相分离得到硅纳米晶。通过比较不同退火方式对于硅纳米晶的形成的影响发现,管式炉退火处理的样品给出非常强的室温光致发光,其发光峰的峰位随着硅纳米晶尺寸的增大而红移,且管式炉退火比快速热退火更有利于硅纳米晶的形成。
胡峰衣立新王申伟高华何桢
关键词：硅纳米晶超晶格磁控溅射热退火
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