季尚司
- 作品数：3 被引量：9H指数：2
- 供职机构：江苏大学能源与动力工程学院更多>>
- 发文基金：江苏省自然科学基金国家自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术更多>>
- 钼屏发射率对泡生法蓝宝石单晶生长影响的数值模拟研究被引量：4
- 2013年
- 泡生法蓝宝石单晶生长过程中,由于生长周期长、温度高,热场中钼屏的物理性质和形状都会发生变化,从而引起炉内温场的变化。通过计算机数值模拟,研究了钼屏发射率发生变化时,泡生法蓝宝石单晶生长中温场、流场的变化。模拟结果表明:随钼屏发射率增加,消耗功率也不断增加;在放肩阶段熔体等温线向下移动,流场也从2个涡流逐渐变成1个涡流;而在等径阶段和收尾阶段,这些变化都不明显。
- 韩江山左然苏文佳季尚司
- 关键词：泡生法蓝宝石数值模拟发射率
- 石英坩埚表面涂层对铸造多晶硅生长中杂质传输的影响被引量：5
- 2013年
- 铸锭中过高的杂质浓度是影响铸造多晶硅太阳电池效率的主要因素之一。本文通过数值模拟的手段研究了不同的表面涂层厚度和涂层渗透率对生长过程中O,C杂质的影响,研究表明涂层厚度能够很明显的降低晶体中O,C的含量。同时涂层的渗透系数越小,O,C杂质在晶体中的分布含量越低。
- 季尚司左然苏文佳韩江山
- 关键词：数值模拟
- 石墨垫板刻槽对生长大晶粒多晶硅杂质传输的影响
- 2013年
- 铸锭中过高的杂质浓度是影响铸造多晶硅太阳电池效率的主要因素之一。铸锭生长过程中的杂质主要有C、N、O、金属离子及固体颗粒SiC和Si3N4。这些杂质能够降低晶片中少数载流子的寿命及太阳电池的填充因子;同时固体颗粒会造成切片过程的断线和晶片表面产生划痕。设计了一种新的方法生长大晶粒多晶硅,对石墨垫板进行刻槽处理,并采用数值模拟的方法模拟了该生长过程杂质的传输。模拟结果表明,刻槽的深度明显影响着初始生长时结晶界面上O、C和N的分布;同时刻槽深度越大,生长速率越快,越能够抑制晶体中SiC和Si3N4的形成。
- 季尚司左然苏文佳韩江山
- 关键词：数值模拟
