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常丹

作品数：1 被引量：3H指数：1
供职机构：电子科技大学物理电子学院应用物理系更多>>
发文基金：国家教育部博士点基金更多>>
相关领域：理学机械工程化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇锐钛矿
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇吸收光谱
  • 1篇离子注入
  • 1篇溅射
  • 1篇光谱
  • 1篇TIO2薄膜
  • 1篇TIO_2薄...
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇电子科技大学

作者

  • 1篇居勇峰
  • 1篇陈猛
  • 1篇祖小涛
  • 1篇常丹
  • 1篇向霞

传媒

  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 1篇2009
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
离子注入掺杂锐钛矿TiO_2薄膜的光学性能被引量：3
2009年
在玻璃基体上,采用射频磁控溅射方法在不同的基体温度下制备了TiO2薄膜,然后在薄膜中注入注量分别为5×1016,1×1017和5×1017/cm2的N离子以制备N掺杂的TiO2薄膜。X射线衍射结果表明:制备出的TiO2薄膜为锐钛矿型。X射线光电子能谱研究结果表明:注入的N离子与TiO2晶粒相互作用,形成了含氮的TiOxN2-x化合物,从而改变了TiO2薄膜的吸收边;随N离子注量增加,吸收边移动更明显;同时,由于氮离子注入产生的辐照缺陷使TiO2薄膜在紫外和可见光区的吸收也明显增强。
常丹陈猛向霞居勇峰祖小涛
关键词：TIO2薄膜锐钛矿离子注入吸收光谱射频磁控溅射
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