您的位置: 专家智库 > >

谢继阳

作品数:4 被引量:3H指数:1
供职机构:西安交通大学材料科学与工程学院金属材料强度国家重点实验室更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇多层膜
  • 4篇纳米
  • 4篇纳米多层膜
  • 2篇致密
  • 2篇溅射
  • 2篇
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇W
  • 1篇压痕
  • 1篇纳米压痕
  • 1篇剪切带
  • 1篇TA
  • 1篇AL
  • 1篇CU
  • 1篇RU

机构

  • 4篇西安交通大学

作者

  • 4篇王飞
  • 4篇谢继阳
  • 3篇徐可为
  • 2篇黄平
  • 2篇黄平
  • 2篇乐薇
  • 1篇周青
  • 1篇李益

传媒

  • 1篇纳米科技
  • 1篇中国科技论文

年份

  • 1篇2015
  • 1篇2013
  • 1篇2012
  • 1篇2010
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
Cu/Ru金属纳米多层膜剪切带行为的研究被引量:3
2015年
采用磁控溅射方法制备了调制周期为3~200nm的Cu/Ru金属纳米多层膜。在通过X线衍射(XRD)和透射电子显微镜(TEM)对多层膜微结构结构进行系统表征的基础上,采用纳米压痕仪和扫描电子显微镜(SEM)研究了不同调制周期下Cu/Ru多层膜的压痕形貌。实验结果表明,调制周期大于8nm时,Cu/Ru多层膜的压痕尖端形成径向裂纹,而在调制周期小于8nm时,Cu/Ru多层膜的压痕周围出现外围剪切带。结合微结构表征,从界面结构演化的角度对实验结果进行了分析讨论。随着调制周期的减小,多层膜界面结构演化成共格界面,从而为位错的滑移提供条件,产生剪切带的同时抑制了裂纹的产生。
周青王飞谢继阳李益黄平
关键词:纳米多层膜剪切带纳米压痕
一种共格/半共格结构的Al/W 多层膜制备方法
本发明公开了一种共格/半共格结构的Al/W多层膜制备方法。在磁控溅射镀膜过程中,如果采用慢速率沉积工艺,通过控制铝层和钨层的单层厚度,并通过溅射过程转速、偏压等实验参数的调整,则可以实现多层界面由共格界面像非共格界面逐步...
黄平谢继阳王飞乐薇徐可为
Al/Ta纳米多层膜中的结构形貌稳定性演化
2010年
采用磁控溅射技术制备了调制波长从18-108 nm的Al/Ta金属多层膜,并研究多层膜沉积过程中的截面结构形貌演化,实验表明,薄膜结构形貌演化分为四个阶段:孕育,萌生,发展和湮灭,可能是因为弹性失配引起的,并且随调制波长的增加呈现逐渐减弱的趋势。单向拉伸实验表明,这些结构形貌的非稳定区域严重影响力学行为,非稳区域往往是潜在的裂纹萌生区域。
谢继阳黄平王飞徐可为
关键词:纳米多层膜
一种共格/半共格结构的Al/W 多层膜制备方法
本发明公开了一种共格/半共格结构的Al/W多层膜制备方法。在磁控溅射镀膜过程中,如果采用慢速率沉积工艺,通过控制铝层和钨层的单层厚度,并通过溅射过程转速、偏压等实验参数的调整,则可以实现多层界面由共格界面像非共格界面逐步...
黄平谢继阳王飞乐薇徐可为
文献传递
共1页<1>
聚类工具0