华晨辉 作品数:11 被引量:12 H指数:2 供职机构: 电子科技大学成都学院 更多>> 发文基金: 河南省科技攻关计划 电子科技大学中青年学术带头人培养计划 国家自然科学基金 更多>> 相关领域: 理学 一般工业技术 电子电信 机械工程 更多>>
主锥螺母自动拧紧对孔装置 本发明公开了一种主锥螺母自动拧紧对孔装置,显示界面与PLC连接,变频电机(48)通过变频器与PLC连接;制动器(43)通过电流驱动器与PLC连接;预紧力传感器(4)通过放大器后经过数模转换模块与PLC连接;控制面板与PL... 丁杰雄 孔朝志 陈佳 华晨辉 宋怡文献传递 谐波小波在旋转机械故障诊断中的应用 被引量:7 2012年 为了对具有非平稳信号的旋转机械的轴心轨迹形状进行识别,提出一种基于谐波小波滤波提纯的方法.谐波小波具有明确的函数表达式,算法实现简单,具有良好的"盒形"频谱特性,能将信号不交叠且不遗漏地分解到相互独立的空间,便于信号特征的提取.采用谐波小波进行滤波提纯,可以将故障信息从原始轴心轨迹信号中分离出来,从而获得轴心轨迹的形状,为旋转机械的故障诊断提供了依据.大量仿真试验表明,该滤波提纯方法简单,具有较强的实用价值. 李彦彦 华晨辉关键词:旋转机械 谐波小波 故障诊断 轴心轨迹 小波 振动信号 一种电动牙膏管 本实用新型公开了一种电动牙膏管,包括柱形外壳(1)、动力输出组件(2)和推动组件(3),推动组件(3)在动力输出组件(2)的驱动下沿柱形外壳(1)的中心轴方向运动,所述的动力输出组件(2)包括微型步进电机(2.1)、中部... 杨峰 李世蓉 李玉娟 华晨辉 张一娇文献传递 MEMS超声分离腔二维简正模式谐振频率的研究 2012年 以基于二维简正模式的微机电系统(MEMS)超声分离器的结构模型为研究对象,首先根据声电类比原理,得到超声分离腔的二维等效电路模型,通过该模型分析计算二维简正模式的谐振频率;接着通过Ansys软件对MEMS超声分离器进行有限元的仿真分析,验证了等效电路模型的可行性,并得到了最佳激发频率;最后在实验中分别采用单片PZT激发(2,1)阶和双片反相位PZT激发(1,1)阶的简正模式,均取得了一定分离的效果。 华晨辉 李彦彦关键词:驻波 等效电路 主锥螺母自动拧紧对孔装置 本实用新型公开了一种主锥螺母自动拧紧对孔装置,显示界面与PLC连接,变频电机(48)通过变频器与PLC连接;制动器(43)通过电流驱动器与PLC连接;预紧力传感器(4)通过放大器后经过数模转换模块与PLC连接;控制面板与... 丁杰雄 孔朝志 陈佳 华晨辉 宋怡文献传递 主锥螺母自动拧紧对孔装置 本发明公开了一种主锥螺母自动拧紧对孔装置,显示界面与PLC连接,变频电机(48)通过变频器与PLC连接;制动器(43)通过电流驱动器与PLC连接;预紧力传感器(4)通过放大器后经过数模转换模块与PLC连接;控制面板与PL... 丁杰雄 孔朝志 陈佳 华晨辉 宋怡文献传递 一种液压传动教学装置 本实用新型公开了一种液压传动教学装置,压板(4.1)活动安装在安装板(1)上,底板(4.2)固定在安装板(1)上,压板(4.1)通过弹簧(4.3)与底板(4.2)固定连接,供压缸(2)内设有供压缸活塞(2.3),供压缸活... 杨峰 李世蓉 李玉娟 华晨辉 张一娇文献传递 MEMS超声分离器的二维简正模式的研究及实验分析 微机电系统(Micro Electro-Mechanical System,MEMS)中利用声辐射力分离流体中的悬浮颗粒具有特别的优势,国内外研究人员在这方面已取得了诸多成果,主要是基于平面驻波和层流分离悬浮颗粒的原理建... 华晨辉关键词:微机电系统 有限元仿真 悬浮液 文献传递 用临界折射纵波测量切向应力时的影响因素研究 被引量:5 2008年 研究了基于声弹性理论,利用临界折射纵波(critically refracted longitudinal wave,LCR波)从构件表面测量内部切向应力时的几个关键问题。应力测量接收到的波形非常复杂,其他的波形影响了对LCR波的识别,相关的影响因素也很多,包括楔块角和试块厚度的影响,进行了这两影响因素在LCR波传播中的对比实验,以构建适合测量切向应力的模型系统,达到对各影响因素优化组合的目的。 李健根 丁杰雄 杨修浩 戴仙金 华晨辉关键词:LCR波 影响因素 基于SOI技术的MEMS超声分离器制备方法研究 2010年 基于简正模式的MEMS超声分离器对分离腔的侧壁垂直度、深度均匀性以及表面平整度等要求较高,结合IC工艺重点探讨、研究了超声分离器腔体制作方法。提出将SOI(silicon on insulator)片作为刻蚀基底,采用等离子体干法刻蚀、硅/玻璃键合以及激光热加工等技术制备分离器,成功制备出腔体深度分别为137μm和200μm的分离器,腔体深度误差均在±2μm以内,腔体表面粗糙度Ra<10 nm,腔体侧壁垂直度达83°。为MEMS超声分离器的制备提供了一种简便、高效的工艺方法。 肖含立 丁杰雄 华晨辉 陈栋 王宇翔关键词:干法刻蚀 IC工艺