尤美琳
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：上海交通大学微电子学院更多>>
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- 金属刻蚀后清洗导致AlSiCu互连线空洞问题的研究和解决
- 随着半导体制造工艺技术的提高和成本的降低,集成电路产品越来越广泛地应用到大众生活的方方面面中。AlSiCu有着良好导电性和导热性等优良性质,且成本低廉,制造工艺简便,因此被广泛应用于一般集成电路产品的制造中。AlSiCu...
- 尤美琳
- 文献传递
- 金属刻蚀后清洗导致AlSiCu互连线空洞问题的研究和对策被引量：1
- 2012年
- 集成电路制造中,AlSiCu互连线一般使用干法刻蚀来制造,刻蚀后需经清洗工艺将残留物去除掉。而在清洗时,合金表面会出现空洞。我们在对空洞形成原理分析后发现,AlSiCu合金是由α相铝铜和富含Cu的θ相铝铜合金组成,在清洗过程中会发生电偶腐蚀而腐蚀Al。并且清洗使用的化学试剂由于含有胺根,水解后加剧了对Al的腐蚀。我们通过降低AlSiCu合金溅射时的衬底温度,将AlSiCu合金表面氧化,去离子水清洗时通入CO2这三种方案来防止AlSiCu合金在清洗时被腐蚀,从而提高了产品的成品率。
- 尤美琳朱亦鸣
