高平
- 作品数：10 被引量：27H指数：3
- 供职机构：南京航空航天大学机电学院江苏省精密与微细制造技术重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金江苏省自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺化学工程更多>>
- 固结磨料研磨K9玻璃亚表面损伤层深度测量方法研究被引量：1
- 2014年
- 光学工件研磨后亚表面损伤层深度是确定其抛光加工余量的重要依据。采用三种典型的光学材料亚表面损伤层深度测量方法(BOE分步腐蚀法、BOE差动腐蚀法、磁流变抛光斑点法),测量比较了固结磨料研抛垫(FAP)研磨后K9玻璃的亚表面损伤层厚度;建立了亚表面损伤模型,分析比较测量误差产生的原因。结果表明:在实验条件下,BOE分步腐蚀法测量精度优于其他两种方法;BOE分步腐蚀法、磁流变抛光斑点法、BOE差动腐蚀法的测量精度分别约为0.1nm、17nm、200nm;亚表面损伤层总深度与其裂纹深度之间存在对数关系。
- 戴子华朱永伟李军高平左敦稳
- 基于固结磨料抛光垫的软脆LBO晶体的加工方法
- 一种基于固结磨料抛光垫的软脆LBO晶体的加工方法，其特征是它包括以下步骤：首先，用粒度不大于14微米的金刚石固结磨料抛光垫对LBO晶体进行粗抛光加工，抛光加工过程中控制抛光压力为50~600g/cm<Sup>2</Sup...
- 李军朱永伟左敦稳李标张彦高平孙玉利
- 基于固结磨料的超薄平面玻璃的加工方法
- 一种基于固结磨料的超薄平面玻璃的加工方法，其特征是它包括以下步骤：首先，取经过研磨后厚度不超过0.5mm的平面玻璃作为原料；其次，采用粒度不超过28微米的金刚石固结磨料抛光垫，控制抛光温度在20～40<Sup>o</Su...
- 李军朱永伟左敦稳张彦李标高平孙玉利
- 双面抛光运动的数学建模及轨迹优化被引量：7
- 2011年
- 双面抛光运动过程复杂,对光学材料的加工有重要的影响,运动轨迹分布不但影响加工效率,而且影响加工工件的表面质量。通过分析双面抛光加工的运动过程,建立双面抛光中任意一点相对于上抛光盘的运动轨迹的数学模型,改变数学模型中的轨迹运动参数,观察不同参数值对抛光轨迹分布的影响,优化分析得出抛光轨迹分布最佳的运动参数值。研究结果表明,工件在行星轮中的位置远离行星轮的回转中心,行星轮与整个抛光盘半径比为0.3,抛光盘与内齿轮的转速比在3~8倍之间,内外齿轮的转速比在1~4倍的范围内,获得的抛光轨迹最优。
- 张彦李军朱永伟高平李标蒋毕亮左敦稳
- 关键词：光学材料数学建模
- 游离磨料和固结磨料研磨后亚表面裂纹层深度研究被引量：11
- 2013年
- 不同研磨方式加工K9玻璃产生不同的亚表面裂纹层深度,亚表面裂纹层深度的测量对确定材料下一步的加工去除量和提高加工效率具有重要意义。利用磁流变抛光斑点法测量游离磨料和固结磨料两种方式研磨后的亚表面裂纹层深度,每种研磨方式选用粒径分别为W40和W14的两种磨料。结果表明:磨粒粒径为W40和W14的游离磨料研磨后K9玻璃的亚表面裂纹层深度分别为20.1μm和3.646μm,而对应固结磨料研磨后的深度分别为3.37μm和0.837μm。固结磨料研磨在加工过程中能有效减小K9玻璃的亚表面裂纹层深度,提高加工效率和工件表面质量,改善器件的性能。
- 李标李军高平朱永伟罗海军左敦稳
- 基于固结磨料抛光垫的软脆LBO晶体的加工方法
- 一种基于固结磨料抛光垫的软脆LBO晶体的加工方法，其特征是它包括以下步骤：首先，用粒度不大于14微米的金刚石固结磨料抛光垫对LBO晶体进行粗抛光加工，抛光加工过程中控制抛光压力为50~600g/cm<Sup>2</Sup...
- 李军朱永伟左敦稳李标张彦高平孙玉利
- 文献传递
- 硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液
- 一种硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液，其特征在于它是由腐蚀剂0.5%-40%，腐蚀抑制剂0.5%-20%，表面活性剂0.5%-15%，pH调节剂0.1%-10%以及去离子水组成。无磨料抛光液不含任何磨料，对被抛光材料表...
- 李军朱永伟左敦稳张彦高平蒋毕亮杨涛周睿洋王军
- 文献传递
- 基于固结磨料的超薄平面玻璃的加工方法
- 一种基于固结磨料的超薄平面玻璃的加工方法，其特征是它包括以下步骤：首先，取经过研磨后厚度不超过0.5mm的平面玻璃作为原料；其次，采用粒度不超过28微米的金刚石固结磨料抛光垫，控制抛光温度在20～40<Sup>o</Su...
- 李军朱永伟左敦稳张彦李标高平孙玉利
- 文献传递
- 光学玻璃研磨加工后亚表面损伤研究
- 光学元件在研磨加工过程中引入的亚表面损伤会直接影响其使用寿命、稳定性、成像质量、镀膜质量和抗激光损伤阈值等重要指标。因此，对研磨加工引入的亚表面损伤的准确测量是确定后续加工过程的去除量、提高加工效率和保证亚表面损伤被完全...
- 高平
- 关键词：光学玻璃研磨加工
- 硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液
- 一种硬脆材料化学机械抛光用无磨料抛光液，其特征在于它是由腐蚀剂0.5%-40%，腐蚀抑制剂0.5%-20%，表面活性剂0.5%-15%，pH调节剂0.1%-10%以及去离子水组成。无磨料抛光液不含任何磨料，对被抛光材料表...
- 李军朱永伟左敦稳张彦高平蒋毕亮杨涛周睿洋王军
