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陈兴峰: 作品数：10 被引量：14H指数：3; 供职机构：南京航空航天大学更多>>; 发文基金：江苏省高等学校大学生实践创新训练计划项目国家自然科学基金更多>>; 相关领域：一般工业技术环境科学与工程更多>>

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基于CCD图像特征的表面疲劳裂纹检测方法: 本发明针对现有的疲劳裂纹检测手段精度不高，需要接触试样，设备昂贵，实施繁琐等缺陷，公开了一种CCD图像特征的表面疲劳裂纹检测方法，它利用MATLAB图像处理技术，研究了表征表面疲劳裂纹扩展的长度与宽度特征参数，比较了两种...; 左敦稳莫国影丁子昀黎向锋陈兴峰; 文献传递

BDD电极的制备及其在水处理中的应用基础研究: 掺硼金刚石/(Boron doped diamond,简称BDD/)具有良好的导电性、很宽的电化学窗口、很小的背景电流、高的化学和电化学稳定性、高的抗腐蚀性能等诸多优于传统电解水处理电极的重要特性,在电解水处理领域有广阔...; 陈兴峰; 关键词：BDD电极电化学性能水处理; 文献传递

掺硼金刚石电极电解离子水生成器: 一种掺硼金刚石电极电解离子水生成器，属于一种水处理设备，它包括壳体(1)和上盖(2)，上盖(2)和壳体(1)相连，其特征是在所述的壳体(1)中安装有若干组由掺硼金刚石阳极(3)和阴极(4)组成的电极组，在掺硼金刚石阳极(...; 陈兴峰黄铭敏戴军之左敦稳康静周亮; 文献传递

基于热丝法的制备双面金刚石涂层的装置: 本发明针对现有热丝法沉积金刚石膜工艺中采用的电极只能在衬底上单面沉积金刚石膜且效率较低的问题，公开了一种基于热丝法的制备双面金刚石涂层的装置，它主要包由电极机构、进气机构、预紧力调节机构、测温机构、衬底机构组成。它实现了...; 卢文壮左敦稳林欢庆袁佳晶徐锋孙玉利陈兴峰杨旭佟佩声喻赛花赵阳; 文献传递

CVD金刚石膜连续制备系统: 本发明针对现有的金刚石膜制备装置不能连续制备CVD金刚石膜而造成的效率低、灯丝损耗大、所需的辅助时间多、制备成本高的问题，公开了一种CVD金刚石膜连续制备系统，它主要由包括沉积装置、过渡装置和装卸装置组成，它利用装置实现...; 卢文壮左敦稳徐锋钟磊王珉黎向锋林欢庆陈兴峰戴军之宋海薇张敏; 文献传递

基于热丝法的制备双面金刚石涂层的装置: 本发明针对现有热丝法沉积金刚石膜工艺中采用的电极只能在衬底上单面沉积金刚石膜且效率较低的问题，公开了一种基于热丝法的制备双面金刚石涂层的装置，它主要包由电极机构、进气机构、预紧力调节机构、测温机构、衬底机构组成。它实现了...; 卢文壮左敦稳林欢庆袁佳晶徐锋孙玉利陈兴峰杨旭佟佩声喻赛花赵阳; 文献传递

掺硼金刚石厚膜电极污水处理实验研究被引量：6: 2008年; 在EACVD(electron-assisted hot filament chemical vapor deposition)金刚石膜沉积系统上制备出了掺硼金刚石厚膜电极,采用循环伏安法研究了掺硼金刚石厚膜电极和IrO2/Ta2O5钛涂层电极电化学性能的差别,结果表明掺硼金刚石厚膜电极具有比IrO2/Ta2O5钛涂层电极更宽的电势窗口(约3.4 V)和更低的背景电流(接近于零)。用所制备的掺硼金刚石厚膜电极和IrO2/Ta2O5钛涂层电极对比处理高浓度难降解污水,通过测定污水处理过程中化学需氧量(chemical oxygen demand,COD)的变化、观察污水处理过程中颜色的变化、处理前后两电极的SEM照片研究了掺硼金刚石厚膜电极在污水处理中的应用,试验表明掺硼金刚石厚膜电极比IrO2/Ta2O5钛涂层电极处理污水效率更高、处理高浓度难降解污染物的能力更强,电极更加稳定、耐腐蚀性更好,是一种很有应用前景的电极。; 陈兴峰戴军之黄铭敏左敦稳周亮康静; 关键词：掺硼金刚石膜电极电化学性能污水处理化学需氧量

基于CCD图像特征的表面疲劳裂纹检测方法: 本发明针对现有的疲劳裂纹检测手段精度不高，需要接触试样，设备昂贵，实施繁琐等缺陷，公开了一种CCD图像特征的表面疲劳裂纹检测方法，它利用MATLAB图像处理技术，研究了表征表面疲劳裂纹扩展的长度与宽度特征参数，比较了两种...; 左敦稳莫国影丁子昀黎向锋陈兴峰; 文献传递

Ti/BDD涂层电极的制备及其电化学性能研究被引量：4: 2010年; 本文在热丝化学气相沉积(HFCVD)系统上,采用不同的工艺参数进行了钛衬底掺硼金刚石(Ti/BDD)涂层电极的制备试验,研究了衬底温度和碳源浓度对Ti/BDD涂层电极质量的影响,优化了制备Ti/BDD涂层电极的工艺条件。结果表明,沉积Ti/BDD涂层电极最合适的衬底温度为770℃,最适宜的C/H为2.0%。采用循环伏安法研究了用优化的工艺参数制备的Ti/BDD涂层电极的电化学性能,结果表明Ti/BDD涂层电势窗口宽、析氧电位高、背景电流小,是一种有广阔应用前景的电极材料。; 陈兴峰左敦稳卢文壮徐锋; 关键词：衬底温度碳源浓度电化学性能

CVD金刚石膜连续制备系统: 本发明针对现有的金刚石膜制备装置不能连续制备CVD金刚石膜而造成的效率低、灯丝损耗大、所需的辅助时间多、制备成本高的问题，公开了一种CVD金刚石膜连续制备系统，它主要由包括沉积装置、过渡装置和装卸装置组成，它利用装置实现...; 卢文壮左敦稳徐锋钟磊王珉黎向锋林欢庆陈兴峰戴军之宋海薇张敏; 文献传递